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(2009?南京)从20世纪中叶开始,硅成了信息技术的关键材料,是目前应用最多的半导体材料.请回答-下列问题:
(1)地壳里各种元素的含量(质量分数)如右图所示,其中表示硅元素的是(填字母).
(2)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,则常温下硅的化学性质(选琐“活泼”、“不活泼”).
(3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意如下:
①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是.
②在生产过程中物质A可循环使用,A的化学式是;在生产过程中还有一种可循环使用的物质是.
【答案】分析:(1)地壳里含量前四位的元素:氧元素、硅元素、铝元素、铁元素;
(2)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,其化学性质相似,不易的电子,也不易失电子,故较稳定;
(3)①在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,考虑氢气不纯,可能会爆炸;
②三氯甲硅烷(SiHCl3)与氢气反应,根据质量守恒定律的元素守恒,会反应生成硅和氯化氢,则氯化氢和焦炭都可循环使用.
解答:解:(1)因为硅元素在地壳里含量是第二位,故选B;
(2)利用知识迁移的方法,碳元素的化学性质较稳定,而硅元素的最外层电子数与之同,则其化学性质也应较稳定,故常温下硅的化学性质不活泼;
(3)①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是爆炸;
②在生产过程中物质A可循环使用,根据质量守恒定律的元素守恒,生成物A的化学式是HCl;在生产过程中还有一种可循环使用的物质是焦炭.
故答为:(1)B;(2)不活泼;(3)①爆炸;②HCl;焦炭.
点评:学会结合课本知识,学会进行知识的大胆迁移的方法;掌握地壳中元素的含量和分布.
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(1)地壳里各种元素的含量(质量分数)如右图所示,其中表示硅元素的是
B
B
(填字母).
(2)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,则常温下硅的化学性质
不活泼
不活泼
(选琐“活泼”、“不活泼”).
(3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意如下:

①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是
爆炸
爆炸

②在生产过程中物质A可循环使用,A的化学式是
HCl
HCl
;在生产过程中还有一种可循环使用的物质是
焦炭
焦炭

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科目:初中化学 来源:2010年安徽省中考化学模拟试卷(二)(解析版) 题型:填空题

(2009?南京)从20世纪中叶开始,硅成了信息技术的关键材料,是目前应用最多的半导体材料.请回答-下列问题:
(1)地壳里各种元素的含量(质量分数)如右图所示,其中表示硅元素的是(填字母).
(2)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,则常温下硅的化学性质(选琐“活泼”、“不活泼”).
(3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意如下:
①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是.
②在生产过程中物质A可循环使用,A的化学式是;在生产过程中还有一种可循环使用的物质是.

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