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    工业上制造高温结构陶瓷碳化硅(SiC)陶瓷的化学方程式如下：SiO2＋3CSiC＋2CO↑．在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是

    [　　]

    A．

    1∶2

    B．

    2∶1

    C．

    1∶1

    D．

    3∶5

    答案：A
    解析：

    　　根据化合价的变化分析氧化还原反应：

    　　将被氧化的C原子与被还原的C原子拆分开来：

    　　由此可见，氧化剂和还原剂的物质的量之比是1∶2．


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    （1）下列材料中的
     
    （填选项）在通讯、能量传输、信息处理、计算机芯片、太阳能电池等方面有着重要的应用．
    ①光导纤维②铝合金  ③钢铁  ④晶体硅  ⑤高温结构陶瓷
      粗硅的制备是以石英和焦炭为原料在高温发生反应而制得，该反应的化学方程式为
     
    ．
    （2）青铜是我国使用最早的合金，铜钱在我国历史上曾经是一种广泛流通的货币．下列有关铜合金的说法正确的是
     
    （填选项）．
    A．我国较早的掌握了湿法冶炼钢的技术
    B．铜的性质不活泼，自然界有大量的游离态的铜
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    （填序号）．

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    科目：高中化学 来源：设计必修一化学鲁科版 鲁科版 题型：021

    工业上制造高温结构陶瓷碳化硅(SiC)陶瓷的化学方程式如下：SiO2＋3CSiC＋2CO↑．在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是

    A．

    1∶2

    B．

    2∶1

    C．

    1∶1

    D．

    3∶5

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    工业上制造高温结构陶瓷碳化硅（SiC）陶瓷的化学方程式如下：SiO2+3CSiC+2CO↑。在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是（    ）

    A.1∶2                   B.2∶1                 C.1∶1                   D.3∶5

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    科目：高中化学 来源：同步题 题型：单选题

    工业上制造高温结构陶瓷碳化硅(SiC)的化学方程式如下：SiO2+3CSiC+2CO↑。在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是
    [     ]
    A．1:2
    B．2:1
    C．1:1
    D．3:5

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