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    单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450～500℃)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

    相关信息如下：

    a．四氯化硅遇水极易水解；

    b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；

    c．有关物质的物理常数见下表：

    物质

    SiCl4

    BCl3

    AlCl3

    FeCl3

    PCl5

    沸点/℃

    57.7

    12.8

    —

    315

    —

    熔点/℃

    －70.0

    －107.2

    —

    —

    —

    升华温度/℃

    —

    —

    180

    300

    162

    请回答下列问题：

    (1)写出装置A中发生反应的离子方程式______________________。

    (2)装置A中g管的作用是________；装置C中的试剂是________；装置E中的h瓶需要冷却的理由是__________________________________。

    (3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。

     

    【答案】

    (1)MnO2＋4H＋＋2Cl－△Mn2＋＋Cl2↑＋2H2O

    (2)平衡压强，使液体顺利流出并防止漏气　浓硫酸　产物SiCl4沸点低，需要冷凝收集

    (3)Al、P、Cl

    【解析】

     

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    科目：高中化学 来源： 题型：阅读理解

    （2009?浙江）单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图．

    相关信息如下：①四氯化硅遇水极易水解；
    ②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
    ③有关物质的物理常数见下表：
    物质 SiCl4 BCl3 AlCl3 FeCl3 PCl5
    沸点/℃ 57.7 12.8 - 315 -
    熔点/℃ -70.0 -107.2 - - -
    升华温度/℃ - - 180 300 162
    请回答下列问题：
    （1）写出装置A中发生反应的离子方程式
    MnO2+4H++2Cl-
     加热 
    .
     
    Mn2++Cl2↑+2H2O
    MnO2+4H++2Cl-
     加热 
    .
     
    Mn2++Cl2↑+2H2O
    ．
    （2）装置A中g管的作用是
    平衡压强，使液体顺利流出并防止漏气
    平衡压强，使液体顺利流出并防止漏气
    ；装置C中的试剂是
    浓硫酸
    浓硫酸
    ；
    装置E中的h瓶需要冷却的理由是
    产物SiCl4沸点低，需要冷凝收集
    产物SiCl4沸点低，需要冷凝收集
    ．
    （3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是
    Al、P、Cl
    Al、P、Cl
    （填写元素符号）．
    （4）为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2+，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：5Fe2++MnO4-+8H+=5Fe3++Mn2++4H2O
    ①滴定前是否要滴加指示剂？
    否
    否
    （填“是”或“否”），请说明理由
    KMnO4溶液的紫红色可指示反应终点
    KMnO4溶液的紫红色可指示反应终点
    ．
    ②某同学称取5.000g残留物后，经预处理后在容量瓶中配制成100mL溶液，移取25.00mL试样溶液，用1.000×10-2 mol/LKMnO4标准溶液滴定．达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00mL，则残留物中铁元素的质量分数是
    4.480%
    4.480%
    ．

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    科目：高中化学 来源： 题型：阅读理解

    单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500 ℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

    相关信息如下：

    a.四氯化硅遇水极易水解；

    b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；

    c.有关物质的物理常数见下表：

    物质

    SiCl4

    BCl3

    AlCl3

    FeCl3

    PCl下标5

    沸点/℃

    57.7

    12.8

    —

    315

    —

    熔点/℃

    -70.0

    -107.2

    —

    —

    —

    升华温度/℃

    —

    —

    180

    300

    162

    请回答下列问题：

    (1)写出装置A中发生反应的离子方程式____________。

    (2)装置A中g管的作用是____________；装置C中的试剂是;装置E中的h瓶需要冷却的理由是____________________________________。

    (3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是____________（填写元素符号）。

    (4)为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：5Fe2++MnO-4+8H+====5Fe3++Mn2++4H2O

    ①滴定前是否要滴加指示剂？________（填“是”或“否”），请说明理由__________________。

    ②某同学称取5.000 g残留物，经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL试样溶液，用1.000×10-2 mol·L-1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是________________。

     

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硫、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450-500°C），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

    相关信息如下：

    a.四氯化硅遇水极易水解；

    b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；

    c.有关物质的物理常数见下表：

    请回答下列问题：

    （1）写出装置A中发生反应的离子方程式                  。

    （2）装置A中g管的作用是              ；装置C中的试剂是         ；装置E中的h瓶需要冷却理由是                 。

    （3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是             （填写元素符号）。

    （4）为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，是铁元素还原成Fe2+ ，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：

    ①滴定前是否要滴加指示剂？            （填“是”或“否”），请说明理由          。

    ②某同学称取5.000g残留物，预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液，移取25.00ml，试样溶液，用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是           。

     

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硫、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450-500°C），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

    相关信息如下：

    a.四氯化硅遇水极易水解；

    b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；

    c.有关物质的物理常数见下表：

    请回答下列问题：www.ks5.u.com

    （1）写出装置A中发生反应的离子方程式                  。

    （2）装置A中g管的作用是              ；装置C中的试剂是         ；装置E中的h瓶需要冷却理由是                 。

    （3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是             （填写元素符号）。

    （4）为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，是铁元素还原成Fe2+ ，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：

    ①滴定前是否要滴加指示剂？           （填“是”或“否”），请说明理由           。

    ②某同学称取5.000g残留物，预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液，移取25.00ml，试样溶液，用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是           。

     

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    科目：高中化学 来源：2013届安徽省高三第一次统考化学试卷（解析版） 题型：实验题

    （10分）单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450~500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

    相关信息如下：

    ①四氯化硅遇水极易水解；

    ②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；

    ③有关物质的物理常数见下表：

    物质

    SiCl4

    BCl3

    AlCl3

    FeCl3

    PCl5

    沸点/℃

    57.7

    12.8

    —

    315

    —

    熔点/℃

    －70.0

    －107.2

    —

    —

    —

    升华温度/℃

    —

    —

    180

    300

    162

    请回答下列问题：

    （1）写出装置A中发生反应的离子方程式                                          。

    （2）装置A中g管的作用是                           ；装置C中的试剂是         ；

    装置E中的h瓶需要冷却的理由是                                            。

    （3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是                  （填写元素符号）。

    （4）为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2＋,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：

    5Fe2＋＋MnO4－＋8H＋5Fe3＋＋Mn2＋＋4H2O

    ①滴定前是否要滴加指示剂？     （填“是”或“否”），请说明理由                  

                                          。

    ②某同学称取5.000g残留物后，经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL试样溶液，用1.000×10－2 mol/L KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是           。

     

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