氯气用途十分广泛.可用于生产半导体材料硅.其生产的流程如下.下列说法不正确的是A．①③是置换反应.②是化合反应B．高温下.焦炭与氢气的还原性均强于硅的C．任一反应中.每消耗或生成28 g硅.均转移4 mol电子D．高温下将石英砂.焦炭.氯气.氢气按一定比例混合可得高纯硅题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

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氯气用途十分广泛，可用于生产半导体材料硅，其生产的流程如下，下列说法不正确的是

A．①③是置换反应，②是化合反应

B．高温下，焦炭与氢气的还原性均强于硅的

C．任一反应中，每消耗或生成28 g硅，均转移4 mol电子

D．高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合可得高纯硅

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科目：高中化学 来源：2015-2016学年吉林长春第十一高中高二下期末考试化学卷（解析版） 题型：填空题

（10分）综合题：

以下是依据一定的分类标准，对某些物质与水反应情况进行分类的分类图。请根据你所学的知识，按要求填空：

（1）上述第一级分类标准（分成A、B组的依据）是。

（2）C组物质中某一物质常温能与冷水反应，其离子方程式为：。

（3）D组中与水反应时氧化剂和还原剂物质的量之比为1：1的物质，有（填化学式）。

（4）F组中的氨水呈弱碱性，用电离方程式表示呈弱碱性的原因：。

（5）将饱和的FeCl3溶液滴入沸水中，并继续煮沸至生成红褐色液体即得氢氧化铁胶体，请写出其对应的离子方程式：。

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（1）D的基态电子排布式为___________________________。

（2）A、B、C元素的第一电离能由大到小的顺序为________________(填元素符号)。

（3）A和B能形成两种常见的化合物BA3和B2A4，试比较两者的沸点的高低：________________（用化学式表示），说明原因：_________________________________。

（4）A和C形成的一种化合物为常见的液态物质，但该物质由液体形成固体后密度却减小。试解释原因：___________________________________。

（5）A、B、C、D四种元素可以形成一种原子个数比为12：6：6：1的配合物，请写出该化合物的化学式：____，其中B原子的杂化类型为________________。

（6）D晶体的堆积类型为_________，其空间利用率为______________(请计算出准确值，可用根式表示)。

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将1.28g Cu投入一定量的浓HNO3溶液中，Cu完全溶解，生成气体颜色越来越浅，共收集到标准状况下的气体448mL，将盛有此气体的容器倒扣在水槽中，通入标准状况下一定体积的氧气，恰好使气体完全溶于水，则通入的氧气的体积为

A．112 mL B．224 mL C．336 mL D．448 mL

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浓盐酸中H3AsO3与SnCl2反应的离子方程式为： 3Sn2＋＋2H3AsO3＋6H＋＋18Cl－＝2As＋3SnCl62－＋6M 关于该反应的说法中正确的组合是

① 氧化剂是H3AsO3；② 还原性：Cl－＞As；

③ 每生成1molAs，反应中转移电子的物质的量为3mol；

④ M为OH－；⑤ SnCl62－是氧化产物。

A．①②④⑤ B．①②③④ C．①③⑤ D．只有①③

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科目：高中化学 来源：2017届黑龙江省高三上学期开学考试化学试卷（解析版） 题型：选择题

下列陈述中，I、II都正确且两者间具有因果关系的一组是

选项	陈述Ⅰ	陈述Ⅱ
A	FeCl3溶液能腐蚀Cu	Fe的金属性强于Cu
B	Na2O2使酚酞溶液变红	Na2O2是碱性氧化物
C	Cl2可部分与水反应	用排饱和食盐水法收集Cl2
D	浓H2SO4可干燥NO和SO2	NO和SO2还原性都弱