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    光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：

    已知：

    Ⅰ．（R，R’为烃基或氢）

    Ⅱ． （R，R’为烃基）

    （1）A分子中含氧官能团名称为          。

    （2）羧酸X的电离方程式为          。

    （3）C物质可发生的反应类型为          （填字母序号）。

    a．加聚反应    b． 酯化反应   c．  还原反应    d．缩聚反应

    （4）B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为          。

    （5）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为          。

    （6）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为

    、、         和         。

    （7）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为          。

     

    【答案】

    （1）醛基

    （2）CH3COOHCH3COO-+H+

    （3）a  b   c（选对两个给1分，错选或多选为0分）

    （4）

    （5）CH3COOCH=CH2

    （6）、

    （7）

    一定条件
     
    （此方程式不写条件不扣分）

    【解析】

    试题分析：根据D，可以反推出A为，B为，C为，羧酸X为CH3COOH，E为，F为；

    （1）分子中含氧官能团名称为醛基

    （2）羧酸CH3COOH的电离方程式为CH3COOHCH3COO-+H+

    （3）含有碳碳双键，羧基，苯环，可发生的反应类型为加聚反应，酯化反应，还原反应，不能发生缩聚反应。

    （4）与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为

    +

    （5）E的结构简式为CH3COOCH=CH2。

    （6）与具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为、、、。

    （7）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为

    一定条件
     
    。

    考点：本题考查有机合成。

     

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