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    在Cu、NaCl(固体)、CaSO4(固体)、CO2、盐酸溶液、NaOH溶液中能导电的物质是________，属于电解质的是________，从以上例子分析可以得知，物质能导电是因为有________或________．

    答案：
    解析：

    Cu、盐酸溶液、NaOH溶液,NaCl(固体)、CaSO4(固体),自由移动的离子,自由移动的电子(缺“自由移动”不得分)


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    科目：高中化学 来源： 题型：

    近来我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放．蚀刻液主要有酸性的（HCl-H2O2）、传统的FeCl3型（HCl-FeCl3）等方法．蚀刻废液中含有大量的Cu2+，废液的回收利用可减少铜资源的流失．其中几种蚀刻废液的常用处理方法如下：
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    （1）FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂可回收铜并使蚀刻液再生．发生的主要化学反应有：
    Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，还有
     
    、
     
    ．（用离子方程式表示）
    （2）HCl-H2O2型蚀刻液在蚀刻电路板过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为：
     
    ．
    （3）H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中加入的试剂A的最佳选择是下列中的
     
    （填序号）．
    ①酸性KMnO4溶液   ②NaCl（固）    ③甲醛    ④葡萄糖
    （4）处理H2O2型酸性废液回收Cu2（OH）2CO3的过程中需控制反应的温度，当温度高于80℃时产品颜色发暗，其原因可能是
     
    ．

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    （12分）近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放。蚀刻液主要有酸性的（HCl—H2O2）、碱性的（NH3—NH4Cl）以及传统的（HCl—FeCl3）等3种。蚀刻废液中含有大量的Cu2+，废液的回收利用可减少铜资源的流失。几种蚀刻废液的常用处理方法如下：

    ⑴ FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂，可回收铜并使蚀刻液再生。发生的主要化学反应有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，还

    有　　  　　 、　　     　　  。（用离子方程式表示）。

    ⑵ HCl—H2O2型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为：

    　　   　            　  。

    ⑶ H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中，加入的试剂A的最佳选择是下列中的　  　　  （填序号）

    ①酸性KMnO4溶液       ②NaCl(固)         ③葡萄糖          ④甲醛

    ⑷ 处理H2O2型酸性废液回收Cu2(OH)2CO3的过程中需控制反应的温度，当温度高于80℃时，产品颜色发暗，其原因可能是　　   　　  。

    ⑸ 碱性蚀刻液在蚀刻过程中发生的化学反应是：2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2= 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O，处理碱性蚀刻废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3的目的是　　   　　  。

     

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    科目：高中化学 来源：2013-2014学年江西省红色六校高三第二次联考理综化学试卷（解析版） 题型：实验题

    实验室采用MgCl2、AlCl3的混合溶液与过量氨水反应制备MgAl2O4二主要流程如下:

     

    （1）制备MgAl2O4过程中，高温焙烧时发生反应的化学方程式????????????? 。

    （2）如图所示，过滤操作中的一处错误是????????????? ?? 。

    判断流程中沉淀是否洗净所用的试剂是??????????? 。高温焙烧时，用于盛放固?? 体的仪器名称是??????????? 。

    （3）在25℃下，向浓度均为0．01 mol?L-1的MgCl2和AlCl3混合溶液中逐滴加入氨水，先生成_________________沉淀(填化学式)，生成该沉淀的离子方程式_____________________（已知25℃时Ksp[Mg(OH)2]=1.8×10-11，Ksp[Al(OH)3]=3×10 -34。）

    （4）无水AlCl3(183℃升华)遇潮湿空气即产生大量白雾，实验室可用下列装置制备。

    装置B中盛放饱和NaCl溶液,该装置的主要作用是????????? ；F中试剂的作用是???????? ；用一件仪器装填适当试剂后也可起到F和G的作用，所装填的试剂为??????????????????? 。

    （5）将Mg、Cu组成的3.92g混合物投入过量稀硝酸中，充分反应后，固体完全溶解时收集到还原产物NO气体1.792L（标准状况），向反应后的溶液中加入4mol/L的NaOH溶液80mL时金属离子恰好完全沉淀。则形成沉淀的质量为??????????????????????? g。

     

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    科目：高中化学 来源：2011-2012学年浙江省高三上学期期中考试化学试卷 题型：填空题

    （12分）近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放。蚀刻液主要有酸性的（HCl—H2O2）、碱性的（NH3—NH4Cl）以及传统的（HCl—FeCl3）等3种。蚀刻废液中含有大量的Cu2+，废液的回收利用可减少铜资源的流失。几种蚀刻废液的常用处理方法如下：

    ⑴ FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂，可回收铜并使蚀刻液再生。发生的主要化学反应有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，还

    有　　  　　  、　　     　　  。（用离子方程式表示）。

    ⑵ HCl—H2O2型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为：

    　　   　             　  。

    ⑶ H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中，加入的试剂A的最佳选择是下列中的　   　　  （填序号）

    ①酸性KMnO4溶液        ②NaCl(固)          ③葡萄糖          ④甲醛

    ⑷ 处理H2O2型酸性废液回收Cu2(OH)2CO3的过程中需控制反应的温度，当温度高于80℃时，产品颜色发暗，其原因可能是　　   　　  。

    ⑸ 碱性蚀刻液在蚀刻过程中发生的化学反应是：2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2 = 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O，处理碱性蚀刻废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3的目的是　　   　　  。

     

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    科目：高中化学 来源： 题型：解答题

    近来我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放．蚀刻液主要有酸性的（HCl-H2O2）、传统的FeCl3型（HCl-FeCl3）等方法．蚀刻废液中含有大量的Cu2+，废液的回收利用可减少铜资源的流失．其中几种蚀刻废液的常用处理方法如下：

    （1）FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂可回收铜并使蚀刻液再生．发生的主要化学反应有：
    Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，还有______、______．（用离子方程式表示）
    （2）HCl-H2O2型蚀刻液在蚀刻电路板过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为：
    ______．
    （3）H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中加入的试剂A的最佳选择是下列中的______（填序号）．
    ①酸性KMnO4溶液　 ②NaCl（固）　　③甲醛　　④葡萄糖
    （4）处理H2O2型酸性废液回收Cu2（OH）2CO3的过程中需控制反应的温度，当温度高于80℃时产品颜色发暗，其原因可能是______．

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