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某溶液中含有HCO3-、SO32-、Cl-和Na+,若向其中通入足量的Cl2,溶液中上述四种离子的

浓度基本保持不变的是

A.HCO3- B.SO32- C.Cl- D.Na+

 

D

【解析】

试题分析:若向某溶液中通入足量的Cl2,会发生反应:Cl2+H2OH++Cl-+HClO;HCO3-+H+= CO2↑ +H2O;SO32-+ HClO=SO42-+H++Cl-。所以HCO3-、SO32-会减少;Cl-会增加;Na+浓度基本保持不变。选项为D。

考点:考查在溶液中Cl2的化学反应的知识。

 

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科目:高中化学 来源:2016届江苏省沭阳县高一下学期期中调研测试化学试卷(解析版) 题型:选择题

几种短周期元素的原子半径及主要化合价如下表

元素代号

L

M

X

R

T

原子半径(nm)

0.160

0.143

0.102

0.089

0.074

主要化合价

+2

+3

+6、-2

+2

-2

 

下列说法正确的是

A.L、T形成的简单离子核外电子数相等

B.R的氧化物对应的水化物呈强碱性

C.X单质在氧气中燃烧生成XO3

D.离子半径大小:r(M3+)> r(T2-)

 

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某原电池的总反应的离子方程式是Zn + Cu2+ = Zn2+ + Cu,该原电池的组成正确的是:

 

A

B

C

D

正极

Zn

Ag

Cu

Cu

负极

Cu

Cu

Zn

Zn

电解质溶液

CuCl2

H2SO4

CuSO4

FeCl2

 

 

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科目:高中化学 来源:2016届安徽师大附中高一下学期期中考查化学试卷(解析版) 题型:选择题

下列反应中转移电子的物质的量不等于2 mol的是

A.1 mol Al与含1mol H2SO4的稀硫酸溶液反应

B.1mol Cu与含4mol HNO3的稀硝酸溶液反应

C.1 mol MnO2与含2 mol H2O2的双氧水反应

D.1 mol Cu与含2 mol H2SO4的浓硫酸共热

 

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科目:高中化学 来源:2016届安徽师大附中高一下学期期中考查化学试卷(解析版) 题型:选择题

常温,下列气体不能共存且发生的反应属于非氧化还原的是

A.NO和O2 B.SO2和H2S

C.NH3和HCl D.Cl2和SO2

 

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科目:高中化学 来源:2015河北保定某重点中学同步课时作业(必修1苏教版)4.1.2硫酸的性质和使用 题型:选择题

实验室有两瓶失去标签的试剂,它们可能是稀硫酸和蔗糖溶液,下列鉴别方案可行的是 (  )

A.分别取少量尝一尝味道

B.取样分别加入一小片铜看有无气泡产生

C.用pH试纸测定两溶液的pH

D.取样分别加入盐酸酸化的氯化钡溶液

 

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科目:高中化学 来源:2015河北保定某重点中学同步课时作业(必修1苏教版)4.1.2硫酸的性质和使用 题型:选择题

可以鉴别稀硫酸和浓硫酸的简单方法是 (  )

A.加酚酞试液 B.与铜片反应

C.加BaCl2溶液和硝酸 D.用玻璃棒各蘸一点滴在纸上

 

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科目:高中化学 来源:2015河北保定某重点中学同步课时作业(必修1苏教版)3.1.1铝及铝合金 题型:选择题

在500 mL NaOH溶液中加入足量铝粉,反应完全后共收集到标准状况下的气体33.6 L,该NaOH溶液的浓度为 (  )

A.1 mol·L-1B.2 mol·L-1

C.1.5 mol·L-1D.3 mol·L-1

 

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科目:高中化学 来源:2015河北保定某重点中学同步作业(必修1苏教版)3.3含硅物质与信息材料 题型:填空题

CCTV对“南澳一号”沉船的考古进行了两个小时的现场直播,从沉船中发现了大量宋代精美瓷器,体现了灿烂的中华文明。青花瓷胎体的原料——高岭土[Al2Si2O5(OH)x],可掺进瓷石制胎,青花瓷釉料的成分主要是钾长石(KAlSi3O8),在1 300℃左右一次烧成的釉可形成精美的青花瓷。

(1)下列说法正确的是    。

A.高岭土分子中x=2

B.钾长石能完全溶解在盐酸中形成澄清的溶液

C.烧制青花瓷过程中发生了复杂的物理变化和化学变化

D.青花瓷、玻璃、水泥都属于硅酸盐产品

(2)在“南澳一号”考古直播过程中,需用高纯度SiO2制造的光纤。如图是用海边的石英砂(含氯化钠、氧化铝等杂质)制备二氧化硅粗产品的工艺流程。

①洗涤石英砂的目的是 

  。

②二氧化硅与氢氧化钠溶液反应的离子方程式是 

  。

③工业上常用纯净石英砂与C在高温下发生反应制造粗硅,粗硅中含有SiC,其中Si和SiC的物质的量之比为1∶1。下列说法正确的是    。

A.制造粗硅时的反应为2SiO2+5CSi+SiC+4CO↑

B.在以上流程中,将盐酸改为NaOH溶液,也可达到目的

C.纯净的SiO2只能用于制造光导纤维

(3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,其生产过程示意图如下:

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 

  。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式 

  ;

H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是

 

  。

 

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