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    工业上用碳还原SiO2制取单质硅会发生如下副反应：SiO2+3C＝＝SiC+2CO↑．该反应中氧化剂与还原剂的质量比为


    1. A.
      36∶60
    2. B.
      60∶36
    3. C.
      1∶2
    4. D.
      1∶3
    C
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    相关习题

    科目：高中化学 来源： 题型：

    硅单质及其化合物应用范围很广．
    （1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备高纯硅．
    Ⅰ．高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅；
    Ⅱ．粗硅与干燥的氯气在450～500℃条件下反应制得SiCl4；
    Ⅲ．SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1 100～1 200℃条件下反应制得高纯硅．
    已知SiCl4沸点为57.6℃，能与H2O强烈反应．1mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2kJ．
    请回答下列问题：
    ①第Ⅲ步反应的热化学方程式为
    2H2（g）+SiCl4（g）
     1100-1200℃ 
    .
     
    Si（s）+4HCl（g）△H=+240.4kJ?mol-1
    2H2（g）+SiCl4（g）
     1100-1200℃ 
    .
     
    Si（s）+4HCl（g）△H=+240.4kJ?mol-1
    ．
    ②整个制备纯硅的过程中必须严格控制在无水无氧的条件下．SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是
    H2SiO3（或H4SiO4）和HCl
    H2SiO3（或H4SiO4）和HCl
    ；H2还原SiCl4过程中若混入O2，可能引起的后果是
    爆炸
    爆炸
    ．
    （2）二氧化硅被大量用于生产玻璃．工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283kg在高温下完全反应时放出CO2 44kg，生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3?CaSiO3?xSiO2表示，则其中x=
    4
    4
    ．

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    硅单质及其化合物应用范围很广。

    （1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备纯硅：

    Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

    Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450 ℃～500 ℃ 反应制得SiCl4

    Ⅲ.  SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃～1200 ℃ 反应制得纯硅

    已知SiCl4沸点为57.6 ℃，能与H2O强烈反应。1 mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ。请回答下列问题：

    ① 第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为                                       ，第Ⅲ步反应的热化学方程式是                                                   。

    ②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是           ；H2还原SiCl4过程中若混O2，可能引起的后果是        。

    （2）二氧化硅大量用于生产玻璃。工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高温下完全反应时放出CO2 44 kg，生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示，则其中x＝          。

     

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    （1）工业上用碳在高温下与二氧化硅反应制取粗硅。反应的化学方程式为：  

    SiO2+2CSi+2CO↑，在该反应中氧化剂是_____________________________，被氧化

    的物质与被还原的物质的物质的量之比是____________________________。

    （2）请写出铜和稀硝酸反应的化学方程式：                                     ，若制得标准状况下的气体 4.48L，则参加反应的硝酸的物质的量为________ mol，转移电子的物质的量为________   mol．

     

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    科目：高中化学 来源：2011届福建省厦门外国语学校高三11月月考化学试卷 题型：填空题

    硅单质及其化合物应用范围很广。
    （1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备纯硅：
    Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
    Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450 ℃～500 ℃ 反应制得SiCl4
    Ⅲ.  SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃～1200 ℃ 反应制得纯硅
    已知SiCl4沸点为57.6 ℃，能与H2O强烈反应。1 mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ。请回答下列问题：
    ① 第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为                                       ，第Ⅲ步反应的热化学方程式是                                                   。
    ②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是          ；H2还原SiCl4过程中若混O2，可能引起的后果是        。
    （2）二氧化硅大量用于生产玻璃。工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高温下完全反应时放出CO2 44 kg，生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示，则其中x＝         。

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    科目：高中化学 来源：2010-2011学年福建省高三11月月考化学试卷 题型：填空题

    硅单质及其化合物应用范围很广。

    （1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备纯硅：

    Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

    Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450 ℃～500 ℃ 反应制得SiCl4

    Ⅲ.  SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃～1200 ℃ 反应制得纯硅

    已知SiCl4沸点为57.6 ℃，能与H2O强烈反应。1 mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ。请回答下列问题：

    ① 第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为                                        ，第Ⅲ步反应的热化学方程式是                                                   。

    ②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是           ；H2还原SiCl4过程中若混O2，可能引起的后果是         。

    （2）二氧化硅大量用于生产玻璃。工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高温下完全反应时放出CO2 44 kg，生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示，则其中x＝          。

     

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