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10分)电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的反应是

SiO2(s)+4HF(g) ==SiF4(g)+2H2O(g) △H(298.15K)=-94.0kJ·mol-1  △S(298.15K)=-75.8J·mol-1 ·K-1 △H△S不随温度而变,试求此反应自发进行的温度条件。

 

【答案】

1240K

【解析】

试题分析:根据△G=△H-T·△S可知

当△G<0时反应是自发进行的

所以

所以该反应自发进行的温度是不难超过1240K

考点:考查△G的有关计算

点评:本题是基础性试题的考查,试题注重基础,难易适中。该题有利于培养学生的规范答题能力,提高学习效率。

 

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科目:高中化学 来源: 题型:

电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的反应是:?

SiO2(s)+4HF(g) SiF4(g)+2H2O(g)?ΔH(298.15 K)=-94.0 kJ·mol-1?

ΔS(298.15 K)=-75.8 J·mol-1·K-1?

设ΔH和ΔS不随温度而变化,试求此反应自发进行的温度条件。????????????

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科目:高中化学 来源: 题型:

电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的反应是:

SiO2(s)+4HF(g)=Si F4(g)+2H2O(g)  ΔH(298.15K)=-94.0 kJ·mol-1  ΔS(298.15K)=-75.8 J·mol-1 ·K -1  ,设ΔH和ΔS不随温度而变化,试求此反应自发进行的温度条件?

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科目:高中化学 来源:2013届辽宁省沈阳铁路实验中学高三第一次月考化学试卷(带解析) 题型:填空题

(每空3分共计10分)硫酸工业中废渣称为硫酸渣,其成分为SiO2、Fe2O3、Al2O3、MgO。某探究性学习小组的同学设计以下方案,进行硫酸渣中金属元素的提取实验。

已知溶液pH=3.7时,Fe3+已经沉淀完全;一水合氨电离常数Kb=1.8×105,其饱和溶液中c(OH)约为1×10-3mol·L-1。请回答:
(1)写出A与氢氧化钠溶液反应的化学方程式:                
(2)上述流程中两次使用试剂①,推测试剂①应该是              (填以下字母编号)

A.氢氧化钠B.氧化铝C.氨水D.水
(3)溶液D到固体E过程中需要控制溶液pH=13,如果pH过小,可能导致的后果是      ;(任写一点)
(4)H中溶质的化学式:            
(5)计算溶液F中c(Mg2+)=        (25℃时,氢氧化镁的Ksp=5.6×10-12

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科目:高中化学 来源:2012-2013学年辽宁省高三第一次月考化学试卷(解析版) 题型:填空题

(每空3分共计10分)硫酸工业中废渣称为硫酸渣,其成分为SiO2、Fe2O3、Al2O3、MgO。某探究性学习小组的同学设计以下方案,进行硫酸渣中金属元素的提取实验。

已知溶液pH=3.7时,Fe3+已经沉淀完全;一水合氨电离常数Kb=1.8×105,其饱和溶液中c(OH)约为1×10-3mol·L-1。请回答:

(1)写出A与氢氧化钠溶液反应的化学方程式:                 

(2)上述流程中两次使用试剂①,推测试剂①应该是               (填以下字母编号)

A.氢氧化钠       B.氧化铝          C.氨水        D.水

(3)溶液D到固体E过程中需要控制溶液pH=13,如果pH过小,可能导致的后果是       ;(任写一点)

(4)H中溶质的化学式:            

(5)计算溶液F中c(Mg2+)=        (25℃时,氢氧化镁的Ksp=5.6×10-12

 

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