100mL0.1mol·L^-1醋酸与50mL0.2mol·L^-1NaOH溶液混合，在所得混合液中()

Ａ.c(Na^＋)＞c(CH₃COO^-)＞c(OH^-)＞c(H^＋)

Ｂ.c(Na^＋)＞c(CH₃COO^-)＞c(H^＋)＞c(OH^-)

Ｃ.c(Na^＋)＞c(CH₃COO^-)＞c(H^＋)=c(OH^-)

Ｄ.c(Na^＋)=c(CH₃COO^-)＞c(OH^-)

关于盐类水解反应的说法正确的是()

A.溶液呈中性的盐一定是强酸与强碱生成的盐

B.含有弱酸根离子的盐的水溶液一定呈碱性

C.盐溶液的酸碱性主要决定于形成盐的酸碱性的相对强弱

D.同浓度的NH₄Cl和NaClpH之和大于14

室温时，若0.1mol·L^-1NaX溶液的pH=9，该溶液中发生水解反应的X^-占全部X^-的物质的量分数为多少？

为了使Na₂S溶液中c（Na⁺）/c（S^2-）的比值变小，可以加入的物质是（）

A.适量盐酸B.适量NaOH溶液C.适量KOH溶液D.适量KHS溶液

在10 mL 0.1 mol·L^-1NaOH溶液中加入同体积、同浓度CH₃COOH溶液，反应后溶液中各微粒的浓度关系错误的是（    ）

A．c(Na⁺)＞c(CH₃COO^-)＞c(H⁺)＞c(OH^-)

B．c(Na⁺)＞c(CH₃COO^-)＞c(OH^-)＞c(H⁺)

C．c(Na⁺)＝c(CH₃COO^-)＋c(CH₃COOH)

D．c(Na⁺)＋c(H⁺)＝c(CH₃COO^-)＋c(OH^-)

常温下，下列各溶液的叙述中正确的是（    ）

A.0.1 mol·L^-1的醋酸钠溶液20 mL与0.1 mol·L^-1盐酸10 mL混合后溶液显酸性

c(Na⁺)＞c(CH₃COO^-)＞c(Cl^-)＞c(H⁺)＞c(CH₃COOH)

B.pH=7的醋酸钠和醋酸混合液中：c(Na⁺)＝c(CH₃COO^-)

C.0.1 mol·L^-1的醋酸的pH＝a，0.01 mol·L^-1的醋酸的pH＝b，则a＋1＜b

D.已知酸性HF＞CH₃COOH，pH相等的NaF与CH₃COOK溶液中，c(Na⁺)-c(F^-)＜c(K⁺)-c(CH₃COO^-)

有①Na₂CO₃溶液 ②CH₃COONa溶液 ③NaOH溶液各25 mL，物质的量浓度均为0.1 mol·L^-1，下列说法正确的是(    )

A.3种溶液pH的大小顺序是③＞②＞①

B.若将3种溶液稀释相同倍数，pH变化最大的是②

C.若分别加入25 mL 0.1 mol·L^-1盐酸后，pH最大的是①

D.若3种溶液的pH均为9，则物质的量浓度的大小顺序是③＞①＞②

在一支10mL试管中充满NO2和O2的混合气体，将其倒立于盛满足量水的水槽中。若x表示原混合气体中NO2的体积（mL），y表示完全反应后试管中剩余气体的体积（mL）。试以x为横坐标，y为纵坐标，在坐标系中表示出x与y的曲线关系。

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

    （1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

    ①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式        。

    ②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式           ；H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是                                 。

    （2）下列有关硅材料的说法正确的是         (填字母)。

      A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥

      B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

      C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

      D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高

      E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释          。

下列表示式正确的是                         （    ）

       A．氨分子的电子式 

       B．氢氧根离子的电子式 

       C．乙酸的结构简式  C₂H₄O₂

       D．苯的实验式  C₆H₆