Question

【题目】光刻胶是制造芯片、集成电路的关键材料。一种新型的光刻胶(高聚物)可由芳香化合物a、化合物b(b中氢的化学环境均相同)为原料制备，其合成路线如图：

已知：a、c均能与NaHCO3反应放出CO2。

下列说法错误的是( )

A.b的结构简式为CH3COCH3

B.c发生消去反应时的产物只有1种

C.d、e均能发生水解反应

D.反应③为加成聚合反应

Answer 1

【答案】B

【解析】

结合流程采用逆合成分析，e为d的加聚产物，结合e的结构可得d为，d由c反应得到，且c能与NaHCO3反应放出CO2，说明c中含有羧基，且c、d组成相差一分子水，由d结构分析可知，c应为，c由a、b反应得到，b的分子式为C3H6O，且b中氢的化学环境均相同，由此可得b为，再结合c的结构可推出a为，据此分析解答。

A.由以上分析，b为丙酮结构简式为：CH3COCH3，故A正确；

B.c为，含有醇羟基可发生消去反应，且羟基所连碳有两种邻位碳氢存在，可得到两种消去产物，故B错误；

C.由以上分析，d、e中均含有酯基，都能发生水解反应，故C正确；

D.反应③是d中碳碳双键发生加成聚合反应产生e，故D正确；

故选：B。