10.光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料.某一光刻胶的闂傚倸鍊搁崐鐑芥嚄閸洖纾婚柕濞炬櫅绾惧灝鈹戦悩宕囶暡闁搞倕鐗忛幉鎼佹偋閸繄鐟ㄩ梺缁樺笒閻忔岸濡甸崟顖氱闁规惌鍨遍弫楣冩煟鎼淬垻鍟查柟鍑ゆ嫹查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料,某一光刻胶的主要成分如图所示,下列有关说法正确的是(  )

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光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料,某一光刻胶的主要成分如图所示,下列有关说法正确的是(  )

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光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料,某一光刻胶的主要成分如图所示,下列有关说法正确的是(  )
A.合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2
B.1 mol该物质可消耗4molH2
C.该物质可稳定存在于碱性溶液中
D.该物质可经过加聚反应制得
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光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料,某一光刻胶的主要成分如图所示,下列有关说法正确的是( )

A.合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2
B.1 mol该物质可消耗4molH2
C.该物质可稳定存在于碱性溶液中
D.该物质可经过加聚反应制得

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光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B.

(1)请指出A中含有的官能团名称
酯基、碳碳双键
酯基、碳碳双键
(填两种).
(2)A经光照固化转变为B,发生了
加成
加成
反应(填反应类型).
(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式

(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式
C18H16O4
C18H16O4

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同步练习册答案
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