硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

    （1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

    ①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式        。

    ②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式           ；H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是                                 。

    （2）下列有关硅材料的说法正确的是         (填字母)。

      A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥

      B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

      C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

      D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高

      E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释          。

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅  的主要方法，生产过程示意图如下：

①     写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________。

②     整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式

________________________________________________________________________；

H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是

________________________________________________________________________。

(2)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。

A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥

B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高

E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，      振荡。写出实验现象并给予解释：

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________。

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。
三氯甲硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式                                 。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式                                             ；
H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是                                 
                                                                            。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是        (填字母)。

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl₃)还原法是当前
制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式_______________________________。整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式______________________________________________。H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是____________________________________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前

制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式_______________________________。整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式______________________________________________。H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是____________________________________________。

(2)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。

A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥

B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高

E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释。____________________________________________。