以还原性为主的非金属单质.如:C.H2等,遇强氧化剂如O2.Cl2.HNO3.H2SO4(浓)等时表现出还原性的非金属单质.如:S.P等.非金属单质的氧化性与还原性情况: 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

(15分)A、G、J均为非金属单质,工业上利用反应①来冶炼与A同主族元素G单质的粗产品。K为无色液体,D是一种常见金属,溶于某无氧酸中得到H溶液,该无氧酸的阴离子在同主族元素形成的简单阴离子中还原性最强(除放射性元素)。其物质间转化关系如下图:(部分反应物和生成物略去)

(1)写出下列物质的化学式B______, F_______,H______。A和G的最简单气态氢化物中,较稳定的物质是        (填化学式),写出反应①的化学方程式                        

(2)反应②是工业上冶炼金属D的方法之一,然而目前世界上60%的D单质是从海水中提取的。以下是海水中提炼金属D的简易流程图(结合工业生产实际,在括号内填写需要加入物质的化学式,方框内填写生成物质的化学式)

(3)海带中含有H的阴离子,常用过氧化氢、稀硫酸和淀粉来检验其阴离子,其主要反应的离子方程式为                                           

(4)写出G→J的化学方程式________________________________________,某同学利用了某技巧首先配平了G和J的系数,下列关系符合此技巧且正确的是_________

A.反应①:F:G=1:1     B.反应②:A:D=1:1

C.反应③:A:J=2:1     D.反应④:E:B =1:1

 

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(15分)A、G、J均为非金属单质,工业上利用反应①来冶炼与A同主族元素G单质的粗产品。K为无色液体,D是一种常见金属,溶于某无氧酸中得到H溶液,该无氧酸的阴离子在同主族元素形成的简单阴离子中还原性最强(除放射性元素)。其物质间转化关系如下图:(部分反应物和生成物略去)

(1)写出下列物质的化学式B______, F_______, H______。A和G的最简单气态氢化物中,较稳定的物质是       (填化学式),写出反应①的化学方程式                        
(2)反应②是工业上冶炼金属D的方法之一,然而目前世界上60%的D单质是从海水中提取的。以下是海水中提炼金属D的简易流程图(结合工业生产实际,在括号内填写需要加入物质的化学式,方框内填写生成物质的化学式)

(3)海带中含有H的阴离子,常用过氧化氢、稀硫酸和淀粉来检验其阴离子,其主要反应的离子方程式为                                           
(4)写出G→J的化学方程式________________________________________,某同学利用了某技巧首先配平了G和J的系数,下列关系符合此技巧且正确的是_________
A.反应①:F:G="1:1    " B.反应②:A:D=1:1
C.反应③:A:J="2:1    " D.反应④:E:B =1:1

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(15分)A、G、J均为非金属单质,工业上利用反应①来冶炼与A同主族元素G单质的粗产品。K为无色液体,D是一种常见金属,溶于某无氧酸中得到H溶液,该无氧酸的阴离子在同主族元素形成的简单阴离子中还原性最强(除放射性元素)。其物质间转化关系如下图:(部分反应物和生成物略去)

(1)写出下列物质的化学式B______, F_______, H______。A和G的最简单气态氢化物中,较稳定的物质是        (填化学式),写出反应①的化学方程式                        

(2)反应②是工业上冶炼金属D的方法之一,然而目前世界上60%的D单质是从海水中提取的。以下是海水中提炼金属D的简易流程图(结合工业生产实际,在括号内填写需要加入物质的化学式,方框内填写生成物质的化学式)

(3)海带中含有H的阴离子,常用过氧化氢、稀硫酸和淀粉来检验其阴离子,其主要反应的离子方程式为                                           

(4)写出G→J的化学方程式________________________________________,某同学利用了某技巧首先配平了G和J的系数,下列关系符合此技巧且正确的是_________

A.反应①:F:G=1:1     B.反应②:A:D=1:1

C.反应③:A:J=2:1     D.反应④:E:B =1:1

 

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(15分)A、G、J均为非金属单质,工业上利用反应①来冶炼与A同主族元素G单质的粗产品。K为无色液体,D是一种常见金属,溶于某无氧酸中得到H溶液,该无氧酸的阴离子在同主族元素形成的简单阴离子中还原性最强(除放射性元素)。其物质间转化关系如下图:(部分反应物和生成物略去)

(1)写出下列物质的化学式B______, F_______, H______。A和G的最简单气态氢化物中,较稳定的物质是       (填化学式),写出反应①的化学方程式                        
(2)反应②是工业上冶炼金属D的方法之一,然而目前世界上60%的D单质是从海水中提取的。以下是海水中提炼金属D的简易流程图(结合工业生产实际,在括号内填写需要加入物质的化学式,方框内填写生成物质的化学式)

(3)海带中含有H的阴离子,常用过氧化氢、稀硫酸和淀粉来检验其阴离子,其主要反应的离子方程式为                                           
(4)写出G→J的化学方程式________________________________________,某同学利用了某技巧首先配平了G和J的系数,下列关系符合此技巧且正确的是_________
A.反应①:F:G="1:1    " B.反应②:A:D=1:1
C.反应③:A:J="2:1    " D.反应④:E:B =1:1

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晶体硅是一种重要的非金属材料.制备纯硅的主要步骤如下:
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅   ②粗硅与干燥HCl气体反应制SiHCl3:Si+3HCl
 300℃ 
.
 
SiHCl3+H2
③SiHCl3与过量H2在1000~1100℃反应制得纯硅.
已知SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃.请回答下列问题:
(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为
SiO2+2C
 高温 
.
 
Si+2CO↑
SiO2+2C
 高温 
.
 
Si+2CO↑

(2)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6℃)和HCl(沸点-84.7℃),提纯SiHCl3采用的方法为:
分馏
分馏

(3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去):
①装置B中的试剂是
浓硫酸
浓硫酸
,装置C中的烧瓶需要加热,其目的是:
使滴入烧瓶中的SiHCl3气化
使滴入烧瓶中的SiHCl3气化

②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是
英管的内壁附有灰黑色晶体
英管的内壁附有灰黑色晶体
,装置D不能采用普通玻璃管的原因是
高温下,普通玻璃会软化
高温下,普通玻璃会软化
,装置D中发生反应的化学方程式为
SiHCl3+H2
 高温 
.
 
Si+3HCl
SiHCl3+H2
 高温 
.
 
Si+3HCl

③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及
先通一段时间H2,将装置中的空气排尽
先通一段时间H2,将装置中的空气排尽

④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质,将试样用稀盐酸溶解,取上层清液后需再加入的试剂(填写字母代号)是
bd
bd

a.碘水b.氯水c.NaOH溶液d.KSCN溶液e.Na2SO3溶液.

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同步练习册答案