氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业。为生成氮化硅膜，可以用NH₃和SiH₄（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜：

3 SiH₄+4NH₃Si₃N₄+12H₂

（1）以硅化镁为原料制备硅烷的反应和工业流程如下：

反应原理：4NH₄Cl+Mg₂Si4NH₃↑+SiH₄↑+2MgCl₂（△H < 0）

①NH₄Cl的化学键类型有____________，SiH₄电子式为_______________。

②上述生产硅烷的过程中液氨的作用是________________________。

③氨气也是重要的工业原料，写出氨气发生催化氧化反应生成NO的化学方程式_______，实验室可利用如图所示装置完成该反应。 

在实验过程中，除观察到锥形瓶中产生红棕色气体外，还可观察到有白烟生成，白烟的主要成分是_____________。

（2）三硅酸镁（Mg₂Si₃O₈∙nH₂O）难溶于水，在医药上可做抗酸剂。它除了可以中和胃液中多余酸之外，生成的H₂SiO₃还可覆盖在有溃疡的胃表面，保护其不再受刺激。三硅酸镁与盐酸反应的化学方程式为_______________________________。将0.184 g三硅酸镁加到50 mL 0.1 mol/L盐酸中，充分反应后，滤去沉淀，以甲基橙为指示剂，用0.1 mol/L NaOH溶液滴定剩余的盐酸，消耗NaOH溶液30 mL，则Mg₂Si₃O₈∙nH₂O的n值为_________。（注：Mg₂Si₃O₈的摩尔质量为260 g/mol）

氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业。为生成氮化硅膜，可以用NH₃和SiH₄（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜：
3 SiH₄+4NH₃Si₃N₄+12H₂
（1）以硅化镁为原料制备硅烷的反应和工业流程如下：
反应原理：4NH₄Cl+Mg₂Si4NH₃↑+SiH₄↑+2MgCl₂（△H < 0）

①NH₄Cl的化学键类型有____________，SiH₄电子式为_______________。
②上述生产硅烷的过程中液氨的作用是________________________。
③氨气也是重要的工业原料，写出氨气发生催化氧化反应生成NO的化学方程式_______，实验室可利用如图所示装置完成该反应。 

在实验过程中，除观察到锥形瓶中产生红棕色气体外，还可观察到有白烟生成，白烟的主要成分是_____________。
（2）三硅酸镁（Mg₂Si₃O₈?nH₂O）难溶于水，在医药上可做抗酸剂。它除了可以中和胃液中多余酸之外，生成的H₂SiO₃还可覆盖在有溃疡的胃表面，保护其不再受刺激。三硅酸镁与盐酸反应的化学方程式为_______________________________。将0.184 g三硅酸镁加到50 mL 0.1 mol/L盐酸中，充分反应后，滤去沉淀，以甲基橙为指示剂，用0.1 mol/L NaOH溶液滴定剩余的盐酸，消耗NaOH溶液30 mL，则Mg₂Si₃O₈?nH₂O的n值为_________。（注：Mg₂Si₃O₈的摩尔质量为260 g/mol）

氯碱工业中，通过电解饱和食盐水获得重要的化工原料：氯气、氢气和氢氧化钠。其中氯气用途十分广泛，除用于净水、环境消毒外，还用于生产盐酸、硅、聚氯乙烯、氯苯等。
（1）写出工业上制取盐酸的化学反应方程式：                                  
（2）工业上可用氯气和石灰乳为原料制造漂白粉，写出漂白粉在空气中的漂白原理（用化学方程式表示）                                                      。
（3）工业上生产半导体材料硅的流程如下:

①写出在制备粗硅时反应的化学方程式_____________________________，此反应中焦炭的作用是____________(填“氧化剂”或“还原剂”)，若有 0.6mol硅生成，反应中转移电子的物质的量是      mol。
②粗硅与氯气反应后得到沸点较低的液态四氯化硅中常混有一些高沸点，难挥发性杂质，必须进行分离提纯。其提纯方法为____________。（填序号）

氯碱工业中，通过电解饱和食盐水获得重要的化工原料：氯气、氢气和氢氧化钠。其中氯气用途十分广泛，除用于净水、环境消毒外，还用于生产盐酸、硅、聚氯乙烯、氯苯等。

（1）写出工业上制取盐酸的化学反应方程式：                                  

（2）工业上可用氯气和石灰乳为原料制造漂白粉，写出漂白粉在空气中的漂白原理（用化学方程式表示）                                                      。

（3）工业上生产半导体材料硅的流程如下:

①写出在制备粗硅时反应的化学方程式_____________________________，此反应中焦炭的作用是____________(填“氧化剂”或“还原剂”)，若有 0.6mol硅生成，反应中转移电子的物质的量是      mol。

②粗硅与氯气反应后得到沸点较低的液态四氯化硅中常混有一些高沸点，难挥发性杂质，必须进行分离提纯。其提纯方法为____________。（填序号）

A．蒸馏             B．过滤             C．萃取             D．结晶

③由四氯化硅通入氢气得到高纯硅和氯化氢气体，写出该反应的化学方程式：

________________________________________________________________________。