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    硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题: (1) 制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意图如下: ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 . ②整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3.HCl和另一种物质.写出配平的化学反应方程式 ,H2还原SihCl3过程中若混02.可能引起的后果是 . (2)下列有头硅材料的详法正确的是 . A.碳化硅化学性质稳定.可用于生产耐高温水混 B.氮化硅硬度大.熔点高.可用于制作高温陶瓷和轴承 C.普通玻璃是由纯碱.石灰石和石英砂的.其熔点很高 D.盐酸可以与硅反应.故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅 【查看更多】

     

    题目列表(包括答案和解析)

    （2008年广东卷，文科基础，67）下列实验不能达到目的的是

    Ａ．往酸性KMnO4溶液中通入乙烯验证乙烯的还原性

    Ｂ．加热氯化铵与氢氧化钙固体混合物制取氨气

    Ｃ．用二氧化锰和稀盐酸反应制取氯气

    Ｄ．用四氯化碳萃取碘水中的碘

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