工业上制备纯硅反应的热化学方程式：SiCl₄（g）+2H₂（g）?Si（s）+4HCl（g）△H=+QkJ/mol（Q＞0），一定温度、压强下，将一定量的反应物通入密闭容器中进行以上反应，下列叙述正确的是（　　）

工业上制备纯硅反应的热化学方程式：SiCl₄（g）+2H₂（g）?Si（s）+4HCl（g）△H=+QkJ/mol（Q＞0），一定温度、压强下，将一定量的反应物通入密闭容器中进行以上反应，下列叙述正确的是（　　）

A．反应过程中，减小压强能提高SiCl4的转化率

B．若反应开始时SiCl4为1mol，则达平衡时，吸收热量为QkJ

C．当反应吸收热量为0.025QkJ时，生成的HCl通入100mL 1mol/L的NaOH溶液得到的溶液呈中性

D．反应至4min时，若HCl浓度为0.12mol/L，则2min时，HCl浓度为0.06mol/L

（2013?潍坊模拟）工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅．下图1是离子交换膜法（允许钠离子通过，不允许氢氧根与氯离子通过）电解饱和食盐水，电解槽阳极产生的气体是，NaOH溶液的出口为（填字母），精制饱和食盐水的进口为（填字母），干燥塔中应使用的液体是．

（1）多晶硅主要采用SiHCl₃还原工艺生产，其副产物SiCl₄的综合利用受到广泛关注．SiCl₄可制气相白炭黑（与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl₄、H₂、O₂反应，产物有两种，化学方程式为．SiCl₄可转化为SiCl₃而循环使用．一定条件下，在20L恒容密闭容器中反应3SiCl₄（g）+2H₂（g）+Si（s）═4SiHCl₃（g）达平衡后，H₂与SiHCl₃物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L，若H₂全部来源于离子交换膜法的电解产物，理论上需消耗NaCl的质量为kg．
（2）如图2，实验室制备H₂和Cl₂通常采用下列反应：
Zn+H₂SO₄?ZnSO4+H2↑，MnO2+4HCl(浓)

△ .

.

MnCl2+Cl2↑+2H2O
据此，从下列所给仪器装置中选择制备并收集H₂的装置（填代号）和制备并收集干燥、纯净Cl₂的装置（填代号）．
可选用制备气体的装置：
（3）采用无膜电解槽电解饱和食盐水，可制取氯酸钠，同时生成氢气．现制得氯酸钠213.0kg，则生成氢气m³（标准状况）．（忽略可能存在的其他反应）

（2011?内江三模）某温度、压强下，将一定量反应物通入密闭容器进行反应Si（s）+4HCl（g）?SiCl₄（g）+2H₂（g）；△H=-QkJ/mol（Q＞0），下列说法正确的是（　　）