【题目】下列做法不会使人中毒的是( )
A.用工业酒精配制白酒饮用
B.将燃气热水器安装在浴室内
C.向蔬菜大棚内通入适量的CO2
D.用胆矾对饮用水进行消毒
科目:初中化学 来源: 题型:
【题目】某小组在实验室进行关于氧气的实验,所用的部分仪器如下图所示.
①写出上述标号仪器的名称:a._________b.________c._________d.__________
②甲同学用双氧水制取氧气,发生反应的文字表达是___________,选择的收集装置是D或________,用D收集氧气时验满的方法是(写出操作步骤、现象、结论)___________.乙同学用氯酸钾和二氧化锰为原料制取氧气,二氧化锰的作用是___________,应选择的发生装置是________.该同学发现产生的气体能使带火星的木条复燃并有刺激性气味,下列分析不合理的是________.
a .反应中氧气的物理性质发生了变化
b. 此时得到的气体一定是混合物
c .只加热氯酸钾,若生成的气体无气味,说明刺激性气味一定与二氧化锰有关
d .可能是生成的氧气与残留在发生装置中的空气在加热的条件下反应生成了新物质.
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科目:初中化学 来源: 题型:
【题目】下表是Ca(OH)2和NaOH的溶解度数据.请回答下列问题:
(1)依据上表数据,绘制Ca(OH)2和NaOH的溶解度曲线,下图中能表示NaOH溶解度曲线的是 (填A或B).
(2)要想把一瓶接近饱和的Ca(OH)2溶液变成饱和溶液,具体措施有:
①加入氢氧化钙,②升高温度③降低温度,④加入水,⑤蒸发水后再恢复到原温度,⑥加入生石灰.
其中措施正确的是( )
A.②④⑥ B.③④ C.①③⑤⑥ D.①②⑤⑥
(3)20℃时,191 g饱和NaOH溶液,蒸发10 g水后,再降温到20℃,可析出NaOH晶体的质量为 .
(4)现有20℃时Ca(OH)2的饱和溶液(甲溶液),向其中加入一定量CaO后得到的溶液(乙溶液),此时溶液中溶质的质量分数乙 甲(填“>”、“<”或“=”).
(5)现有60℃时含Ca(OH)2和NaOH两种溶质的饱和溶液,若要得到较纯净的NaOH晶体,应采取的物理方法是 .
(6)20℃时,欲测定NaOH溶液的pH,若先将pH试纸用蒸馏水润湿,再进行测定,则所测溶液的pH (填“偏大”、“偏小”或“不受影响”).
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【题目】下图是实验室制取气体的一些装置,据图回答问题。(以下所选装置均填装置序号)
(1)写出指定仪器的名称①______________;②_________________。
(2)如果用过氧化氢溶液同二氧化锰混合制氧气,要得到平稳的氧气流,应选用的气体发生装置是_______;反应的化学方程式为_______ ;
(3)B装置中试管口略向下倾斜的原因是_________,如果用该装置来加热高锰酸钾制氧气,需要改进的地方是_______;
(4)能用E装置收集的气体,必须具备的性质是________________________________;
(5)若装置C中反应剧烈,从实验安全角度考虑,可采取的措施有_____________(填序号)。
①用容积较小的锥形瓶 ②控制液体的滴加速度
③加热反应物 ④降低反应物浓度
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【题目】某学生加热氯酸钾制氧气时,错将高锰酸钾当成二氧化锰混入氯酸钾中,实验后果是( )
A. 反应速率加快,生成氧气的质量不变 B. 反应速率不变
C. 生成的氧气的质量不变 D. 反应速率加快,生成氧气的质量增加
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【题目】学校里有一种二氧化碳灭火器,如图,回答下列问题。
(1)图中属于有机合成材料的是________(填一种,下同),属于金属材料的是______;
(2)在使用此种灭火器时,手拿塑料柄而不能接触金属部位,原因是________;
(3)较活泼的金属钠着火时不能使用二氧化碳灭火器,因为钠在二氧化碳气体中可以燃烧生成碳酸钠和一种黑色单质,请写出化学方程式:_____________;
(4)报废灭火器中含有磷酸二氢铵(化学式为NH4H2PO4)可作________(选填字母)使用。
A.钾肥 B.磷肥
C.氮肥 D.复合肥
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【题目】(7分)实验室利用下列装置可以制取某些气体,请据图回答问题:
(1)这五个装置示意图中,有一个装置是错误的,指出错误装置是 (填序号)。
(2)图示中仪器①的作用 ;实验室用高锰酸钾来制取氧气,可选择A作发生装置,但要对A进行改进,改进的方法是 ;实验室若用B作发生装置制氧气,则该反应方程式为 。
(3)常温下,硫化氢(H2S)是一种有臭鸡蛋气味的气体,实验室可用硫化亚铁(FeS)固体和稀硫酸反应制得,该反应方程式为FeS + H2SO4(稀)= H2S↑+Fe SO4 ,则应选择
(填序号,下同)来作发生装置。
(4)NO气体难溶于水,密度略大于空气,易与氧气反应生成NO2,则应选择 装置来收集NO。
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【题目】硅是一种重要的半导体材料,应用范围广。三氯硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程如图所示:
(1)硅属于__________(选填“金属”或“非金属”)元素;
(2)写出上述流程中一种氧化物的化学式:______________________;
(3)上述流程中最后一步反应的化学方程式为______________________________,该反应属于________(填基本反应类型)反应;
(4)如果还原SiHCl3过程中混入O2,可能引起的后果是________________________;
(5)该流程中可以循环利用的物质的化学式是____________________。
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