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(16分)氨气是一种重要的基础化工原料,用途广泛。

(1)在微电子工业中,氨水可作刻蚀剂H2O2 的清除剂,产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH+ 3H2O2=         +6H2O

(2)工业中常用以下反应合成氨:N2+3H22NH△H<0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中,分别加入N2和H2,浓度均为c(N2) = 0.100mol/L, c(H2) = 0.300mol/L,进行反应时, N2的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。

该反应平衡常数的数学表达式为             ;实验②平衡时H2的转化率为_____       

(3)据图所示,②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出,并说明判断的理由。

②条件:_______      理由:                                      ________

③条件:_______      理由:                                      ________

 

【答案】

.(16分)

(1)2NH+ 3H2O2  =  N2  +  6H2O   (2分)

(2)K  =  (3分)            40%  (3分)

(3)②:加了催化剂(2分);因为加入催化剂能缩短达到平衡的时间,但化学平衡不移动,所以①②两装置达到平衡时N2的浓度相同。(2分)

③:温度高(2分);该反应为放热反应,温度升高,达到平衡的时间缩短,但平衡向逆反应方向移动,③中到达平衡时N2的浓度高于①。(2分)

【解析】

 

练习册系列答案
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科目:高中化学 来源: 题型:

(16分)氨气是一种重要的基础化工原料,用途广泛。

(1)在微电子工业中,氨水可作刻蚀剂H2O2 的清除剂,产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH+ 3H2O2=        +6H2O

(2)工业中常用以下反应合成氨:N2+3H22NH△H<0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中,分别加入N2和H2,浓度均为c(N2) = 0.100mol/L, c(H2)= 0.300mol/L,进行反应时, N2的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。

该反应平衡常数的数学表达式为            ;实验②平衡时H2的转化率为_____       

(3)据图所示,②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出,并说明判断的理由。

②条件:_______      理由:                                     ________

③条件:_______      理由:                                     ________

 

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科目:高中化学 来源: 题型:

(16分)氨气是一种重要的基础化工原料,用途广泛。

在微电子工业中,氨水可作刻蚀剂H2O2 的清除剂,产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH3+3H2O2=     +6H2O

工业中常用以下反应合成氨:N2+3H22NH△H<0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中,分别加入浓度均为C(N2)=0.100mol/L,C(H2)=0.300mol/L进行反应时, N2的浓度随时间的变化如下图①、②、③曲线所示。

(1)该反应平衡常数的数学表达式            ;实验②平衡时H2的转化率为_______

(2)据图所示,②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出,并说明判断的理由。

②条件:_______      理由:                                     ________

③条件:_______      理由:                                     ________

 

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科目:高中化学 来源:2011届广东省揭阳一中高三学年会考(理综)化学部分 题型:填空题

(16分)氨气是一种重要的基础化工原料,用途广泛。
(1)在微电子工业中,氨水可作刻蚀剂H2O2的清除剂,产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH+ 3H2O2=         +6H2O
(2)工业中常用以下反应合成氨:N2+3H22NH△H<0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中,分别加入N2和H2,浓度均为c(N2) =" 0.100mol/L," c(H2) = 0.300mol/L,进行反应时, N2的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。

该反应平衡常数的数学表达式为            ;实验②平衡时H2的转化率为_____       
(3)据图所示,②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出,并说明判断的理由。
②条件:_______     理由:                                     ________
③条件:_______     理由:                                     ________

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科目:高中化学 来源:2010-2011学年广东省中山市高三化学模拟试卷(九) 题型:填空题

(16分)氨气是一种重要的基础化工原料,用途广泛。

在微电子工业中,氨水可作刻蚀剂H2O2 的清除剂,产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH3+3H2O2=      +6H2O

工业中常用以下反应合成氨:N2+3H22NH△H<0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中,分别加入浓度均为C(N2)=0.100mol/L, C(H2)=0.300mol/L进行反应时, N2的浓度随时间的变化如下图①、②、③曲线所示。

(1)该反应平衡常数的数学表达式             ;实验②平衡时H2的转化率为_______

(2)据图所示,②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出,并说明判断的理由。

②条件:_______      理由:                                      ________

③条件:_______      理由:                                      ________

 

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