氨气是一种重要的基础化工原料.用途广泛.在微电子工业中.氨水可作刻蚀剂H2O2 的清除剂.产物不污染环境.该反应的化学方程式为2NH3+3H2O2= +6H2O工业中常用以下反应合成氨:N2+3H22NH3 △H＜0.某实验室在三个不同条件的密闭容器中.分别加入浓度均为C(N2)=0.100mol/L,C(H2)=0.300mol/L进行题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

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(16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。

在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H₂O₂ 的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH₃+3H₂O₂= +6H₂O

工业中常用以下反应合成氨：N₂+3H₂2NH₃△H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入浓度均为C(N₂)=0.100mol/L,C(H₂)=0.300mol/L进行反应时, N₂的浓度随时间的变化如下图①、②、③曲线所示。

（1）该反应平衡常数的数学表达式；实验②平衡时H₂的转化率为_______

（2）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。

②条件：_______ 理由： ________

③条件：_______ 理由： ________

(16分)

N₂（2分）

（1）(3分) 40%（3分）

（2）②加了催化剂；因为加入催化剂能缩短达到平衡的时间，但化学平衡不移动所以①②两装置达到平衡时N₂的浓度相同。（4分）

③温度高；该反应为放热反应，温度升高，达到平衡的时间缩短，但平衡向逆反应方向移动，③中到达平衡时N₂的浓度高于①（4分）

解析:

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科目：高中化学 来源： 题型：

(16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。

（1）在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H₂O₂ 的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH₃+ 3H₂O₂= +6H₂O

（2）工业中常用以下反应合成氨：N₂+3H₂2NH₃△H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入N₂和H₂，浓度均为c(N₂) = 0.100mol/L, c(H₂)= 0.300mol/L，进行反应时, N₂的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。

该反应平衡常数的数学表达式为；实验②平衡时H₂的转化率为_____ 。

（3）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。

②条件：_______ 理由： ________

③条件：_______ 理由： ________

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科目：高中化学 来源：2011届广东省揭阳一中高三学年会考（理综）化学部分 题型：填空题

(16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。
（1）在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H₂O₂的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH₃+ 3H₂O₂=         +6H₂O
（2）工业中常用以下反应合成氨：N₂+3H₂2NH₃△H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入N₂和H₂，浓度均为c(N₂) =" 0.100mol/L," c(H₂) = 0.300mol/L，进行反应时, N₂的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。

该反应平衡常数的数学表达式为            ；实验②平衡时H₂的转化率为_____       。
（3）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。
②条件：_______     理由：                                     ________
③条件：_______     理由：                                     ________