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(I)光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光刻版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B.
(1)A经光照固化转变为B,发生了______反应(填反应类型).
(2)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式______.
(II)A为某芳香烃的衍生物,只含C、H、O三种元素,环上有两个取代基.又已知A的相对分子质量为150,A不能使FeCl3溶液显色,但可被新制Cu(OH)2氧化为B,B在浓硫酸存在和加热时,发生分子内的酯化反应生成C;C分子中有一个含氧的六元环.
(1)B分子中的含氧官能团为(填名称)______;
(2)写出符合上述条件的A的可能的结构式:______;
(3)写出任意一种A与新制Cu(OH)2反应的化学方程式:______;
(4)写出任意一种B生成的C化学方程式:______.

【答案】分析:Ⅰ(1)A转化为B的反应C=C断裂,转化为C-C,为加成反应;
(2)A含有酯基,在碱性条件下发生水解反应;
Ⅱ(1)A不能使FeCl3溶液显色,说明苯环上不含羟基,但可被新制Cu(OH)2氧化为B,说明A中含有醛基,B在浓硫酸存在和加热时,发生分子内的酯化反应生成C,说明B中含有羧基和羟基;
(2)A有一个羟基,没有酚羟基,有一个醛基,由于B能在浓硫酸存在下发生分子内的酯化反应生成含氧的六元环,说明A可能的结构简式为 (结合残基法、从A的相对分子质量150,可推出A含苯环);
(3)A与新制Cu(OH)2发生氧化还原反应生成羧基;
(4)B生成C的反应为酯化反应.
解答:解:Ⅰ(1)A转化为B的反应C=C断裂转化为C-C,为加成反应,故答案为:加成反应;
(2)A含有酯基,在碱性条件下发生水解反应,反应的化学方程式为
故答案为:
Ⅱ(1)B在浓硫酸存在和加热时,发生分子内的酯化反应生成C,说明B中含有羧基和羟基,故答案为:羧基,羟基;
(2)A有一个羟基,没有酚羟基,有一个醛基,由于B能在浓硫酸存在下发生分子内的酯化反应生成含氧的六元环,说明A可能的结构简式为
故答案为:
(3)A与新制Cu(OH)2发生氧化还原反应生成羧基,反应的化学方程式为
故答案为:

(4)B生成C的反应为酯化反应,由题意可知,生成的酯为六元环,反应的化学方程式为
故答案为:
点评:本题考查有机物的结构和性质,题目难度中等,本题注意ⅡA的结构简式的推断为解答该题的关键,也是易错点.
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科目:高中化学 来源: 题型:

(2011?绵阳模拟)(I)光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光刻版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B.
(1)A经光照固化转变为B,发生了
加成反应
加成反应
反应(填反应类型).
(2)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式

(II)A为某芳香烃的衍生物,只含C、H、O三种元素,环上有两个取代基.又已知A的相对分子质量为150,A不能使FeCl3溶液显色,但可被新制Cu(OH)2氧化为B,B在浓硫酸存在和加热时,发生分子内的酯化反应生成C;C分子中有一个含氧的六元环.
(1)B分子中的含氧官能团为(填名称)
羧基,羟基
羧基,羟基

(2)写出符合上述条件的A的可能的结构式:

(3)写出任意一种A与新制Cu(OH)2反应的化学方程式:

(4)写出任意一种B生成的C化学方程式:

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