四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法,有关反应的化学方程式为:
SiCl4+2H24HCl+Si
下列说法不合理的是
A.反应制得的硅可用于制造半导体材料 |
B.增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率 |
C.四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得 |
D.混入少量空气对上述反应无影响 |
科目:高中化学 来源: 题型:
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A、光导纤维的主要成分是硅单质 |
B、减小压强有利于加快化学反应速率 |
C、高温下,氢气的还原性强于硅 |
D、混入少量空气对上述反应无影响 |
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科目:高中化学 来源:2014届黑龙江省高二上学期期末化学试卷(解析版) 题型:选择题
四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法,有关反应的化学方程式为:
SiCl4+2H24HCl+Si
下列说法不合理的是
A.反应制得的硅可用于制造半导体材料
B.增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率
C.四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得
D.混入少量空气对上述反应无影响
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科目:高中化学 来源:2012-2013学年黑龙江省牡丹江一中高二(上)期末化学试卷(解析版) 题型:选择题
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