工业制造粗硅的化学方程式为：SiO₂+2C $数学公式$ Si+2CO↑，在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是

A.
1：2
B.
2：1
C.
1：1
D.
5：2

A
分析：SiO₂+2C $\text{[math]}$ Si+2CO↑中，Si元素的化合价由+4价降低为0，C元素的化合价由0升高为+2价，以此解答．
解答：SiO₂+2C $\text{[math]}$ Si+2CO↑中，Si元素的化合价由+4价降低为0，C元素的化合价由0升高为+2价，
氧化剂为SiO₂，还原剂为C，
由反应可知，氧化剂和还原剂的物质的量之比为1：2，
故选A．
点评：本题考查氧化还原反应，明确反应中元素的化合价变化及基本概念即可解答，题目难度不大，注重基础知识的考查．

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黄冈新思维培优考王单元加期末卷系列答案

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科目：高中化学 来源： 题型：

氯碱工业中，通过电解饱和食盐水获得重要的化工原料，其产物中的氯气用途十分广泛，除用于净水、环境消毒外，还用于生产盐酸、聚氯乙烯、氯苯等．
（1电解食盐水的离子方程式为

．氯气用于生产半导体材料硅的流程如下：

①石英砂的主要成分的化学式为

，在制备粗硅时，焦炭的作用是

．
②粗硅与氯气反应后得到的液态四氯化硅中常混有一些杂质，必须进行分离提纯．其提纯方法为

．
③由四氯化硅得到高纯硅的化学方程式为：

．
高温
（2）用于制造塑料薄膜、人造革、塑料管材和板材的聚氯乙烯（PVC塑料）就是以氯气和乙烯为主要原料通过

、消去和

三步主要反应生产的，这三步的化学方程式分别为：

、CH₂Cl=CH₂Cl

高温

CH₂=CHCl+HCl、

．
（3）上述两种生产过程可得到同一种副产品，该副产品是

．

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科目：高中化学 来源： 题型：

工业制造粗硅的化学方程式为：SiO₂+2C

高温

Si+2CO↑，在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是（　　）

A、1：2	B、2：1
C、1：1	D、5：2

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科目：高中化学 来源： 题型：

学习化学应该明确“从生活中来，到生活中去”道理．在生产生活中，我们会遇到各种各样的化学反应．请按要求回答下列问题：
（1）写出下列反应的化学方程式．（注意反应条件并配平）
①镁带着火时，不能用液态CO₂灭火剂来灭火的原因是

．
②工业上用氯气和消石灰（氢氧化钙乳浊液）反应制取漂白粉

．
（2）请你写出下列反应的离子方程式．
①胃舒平含有氢氧化铝，可用来治疗胃酸（盐酸）过多

．
②电子工业常用30%的FeCl₃溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔，制造印刷电路板

．
（3）工业上生产半导体材料硅的流程如图：

写出在制备粗硅时反应的化学方程式并标出电子转移的方向和数目：

．
（4）铝热反应在工业生产中的重要用途之一是

；小苏打在日常生活中的用途之一是

，将小苏打和纯碱的混合物19.0g加热到恒重，测得固体质量为15.9g，则混合物中小苏打的质量分数为

．

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科目：高中化学 来源：2007年全国普通高校统一招生考试(山东卷)理科综合试测题化学部分 题型：022

氯碱工业中，通过电解饱和食盐水获得重要的化工原料．其中氯气用途十分广泛，除用于净水、环境消毒外，还用于生产盐酸、聚氯乙烯、氯苯等．

(1)该反应的化学方程式为________．氯气用于生产半导体材料硅的流程如下：

①石英砂的主要成分是________，在制备粗硅时，焦炭的作用是________．

②粗硅与氯气反应后得到的液态四氯化硅中常混有一些杂质，必须进行分离提纯．其提纯方法为________．

③由四氯化硅得到高纯硅的化学方程式是________．

(2)用于制造塑料薄膜、人造革、塑料管材和板材的聚氯乙烯(PVC塑料)就是以氯气和乙烯为主要原料通过________、裂解和________三步主要反应生产的．生产聚氯乙烯的有关反应的化学方程式为________．

(3)上述两种生产过程可得到同一种副产品，该副产品是________．

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工业制造粗硅的化学方程式为：SiO2+2CSi+2CO↑，在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是

工业制造粗硅的化学方程式为：SiO₂+2C $数学公式$ Si+2CO↑，在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是