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【题目】某有机物中有一个苯环、一个﹣C3H7、一个﹣OH,则它属于酚类的结构可能有

A.3B.4C.5D.6

【答案】D

【解析】

属于酚类,则羟基直接和苯环相连,-C3H7有两种结构:正丙基和异丙基,分别连在羟基的邻、间、对三个位置,共6种,故选D

练习册系列答案
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科目:高中化学 来源: 题型:

【题目】已知晶体硼的基本结构单元是由硼原子组成的正二十面体(如图所示)。其中有二十个等边三角形的面和一定数目的顶点,每个顶点各有一个硼原子,则这个基本结构单元由个硼原子构成,共含有个B—B键。

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科目:高中化学 来源: 题型:

【题目】下列有关除杂质(括号中为杂质)的操作中,错误的是(

A. 乙醇(水):加新制生石灰,蒸馏,收集馏出物

B. 溴乙烷(乙醇):多次加水振荡,分液,弃水层

C. 苯(苯酚):加溴水,振荡,过滤除去沉淀

D. 乙酸乙酯(乙酸):加饱和碳酸钠溶液,充分振荡,分液,弃水层

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科目:高中化学 来源: 题型:

【题目】对于敞口容器中的化学反应:Zn(s)+H2SO4(aq)=ZnSO4(aq)+H2(g),下列叙述中不正确的是(  )

A.Zn和H2SO4的总能量大于ZnSO4和H2的总能量
B.反应过程中能量关系可用上图表示
C.若将该反应设计成原电池,则Zn为负极
D.若将该反应设计成原电池,当有32.5g锌溶解时正极放出11.2 L气体

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科目:高中化学 来源: 题型:

【题目】硅是带来人类文明的重要元素之一,从传统材料到信息材料的发展过程中创造了一个有一个奇迹.
(1)新型陶瓷Si3N4的熔点高、硬度大、化学性质稳定.工业上可以采用化学气相沉积法,在H2的保护下,使SiCl4与N2反应生成Si3N4沉积在石墨表面,写出该反应的化学方程式
(2)一种用工业硅(含少量钾、钠、铁、铜的氧化物),已知硅的熔点是1420℃,高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅.一种合成氮化硅的工艺主要流程如图:

①净化N2和H2时,铜屑的作用是:;硅胶的作用是
②在氮化炉中3SiO2(s)+2N2(g)═Si3N4(s)△H=﹣727.5kJ/mol,开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度;体系中要通入适量的氢气是为了
③X可能是(选填:“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氢氟酸”).
(3)工业上可以通过如图所示的流程制取纯硅:
①整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应,写出该反应的化学方程式
②假设每一轮次制备1mol纯硅,且生产过程中硅元素没有损失,反应Ⅰ中HCl的利用率为90%,反应Ⅱ中H2的利用率为93.75%.则在第二轮次的生产中,补充投入HCl和H2的物质的量之比是

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【题目】回答下列各题:
(1)①H2~H2、②H2O~H2O、③CH3OH~H2O、④CCl4~H2O,上述各对分子之间只存在范德华力的有 , 存在氢键的有。(填序号)
(2)在物质①苯、②NH3、③C3H8、④ 、⑤对羟基苯甲醛、⑥CH3CH2OH中,能形成分子间氢键的有 , 能形成分子内氢键的有 , 不能形成氢键的有。(填序号)
(3)在晶体①NaCl、②干冰、③金刚石、④金属钠中,其构成微粒之间的作用力分别是。其中熔点最高的是 , 最低的是(填序号)。
(4)冰融化时,要克服H2O分子间的。硫粉溶于CS2时依靠它们之间的作用。
(5)在NCl3、PCl3、AsCl3、SbCl3中沸点最低的是;在KF、KCl、KBr、KI中,熔点最高的是

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【题目】下列解释实验过程或事实的反应方程式不正确的是(
A.熔融烧碱时,不能使用普通石英坩埚:SiO2+2NaOH Na2SiO3+H2O
B.在海带灰的浸出液(含有I)中滴加H2O2得到I2:2I+H2O2+2H+═I2+O2↑+2H2O
C.红热的铁丝与水接触,表面形成蓝黑色(或黑色)保护层:3Fe+4H2O(g) Fe3O4+4H2
D.“84消毒液”(有效成分NaClO)和“洁厕灵“(主要成分盐酸)混合使用放出氯气:ClO+Cl+2H+═Cl2↑+H2O

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【题目】设NA为阿伏伽德罗常数的值.下列说法正确的是(
A.高温下,0.2 mol Fe与足量水蒸气反应,生成的H2分子数目为0.3NA
B.室温下,1 L pH=13的NaOH溶液中,由水电离的OH离子数目为0.1NA
C.氢氧燃料电池正极消耗22.4 L(标准状况)气体时,电路中通过的电子数目为2NA
D.5NH4NO3 2HNO3+4N2↑+9H2O反应中,生成28 g N2时,转移的电子数目为3.75NA

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【题目】生产上用过量烧碱溶液处理某矿物(含Al2O3、MgO),过滤后得到滤液用NaHCO3溶液处理,测得溶液pH和Al(OH)3生成的量随加入NaHCO3溶液体积变化的曲线如下:下列有关说法不正确的是(
A.NaHCO3溶液的物质的量浓度为0.8 mol/L
B.b点与c点溶液所含微粒种类相同
C.a点溶液中存在的离子是Na+、AlO2、OH、H+
D.生成沉淀的离子方程式为:HCO3+AlO2+H2O═Al(OH)3↓+CO32

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