Question

【题目】在半导体工业中有这样一句行话：“从沙滩到用户”．高纯硅是电子信息工业的关键材料，目前我国制备高纯硅主要采用三氯氢硅氢还原法，其主要工艺流程如图所示：
（1）在制取粗硅的反应①中，焦炭的作用是；制取高纯硅的反应⑤的反应类型是 ．
（2）在反应①中得到的粗硅含有铁、铝、碳等杂质，酸浸的目的是 ．
（3）精馏原理和蒸馏原理相同，该原理是 ．
（4）写出反应①和反应③的化学方程式： 反应①；
反应③ ．

Answer 1

【答案】
（1）作还原剂；置换反应
（2）除去铁、铝等金属杂质
（3）利用混合物中各组分的沸点不同,用加热的方法将不同沸点物质分离
（4）SiO2+2C Si+2CO； Si+3HCl SiHCl3+H2
【解析】】解：（1）碳和二氧化硅反应生成硅，碳起到还原剂的作用，制取高纯硅的反应⑤中氢气置换出硅，为置换反应，所以答案是：作还原剂；置换反应；（2）在反应①中得到的粗硅含有铁、铝、碳等杂质，加入酸，可除去铁、铝等金属杂质，所以答案是：除去铁、铝等金属杂质；（3）精馏与蒸馏原理一样，都是利用混合物中各组分的沸点不同，用加热的方法将不同沸点物质分离，所以答案是：利用混合物中各组分的沸点不同，用加热的方法将不同沸点物质分离；（4）反应①为SiO2+2C Si+2CO，反应③为Si+3HCl SiHCl3+H2，所以答案是：SiO2+2C Si+2CO；Si+3HCl SiHCl3+H2．