【题目】诺贝尔化学奖得主GerhardErtl曾深入研究了Pt金属表面催化CO氧化反应的模型,下列关于的说法正确的是( )
A. 的中子数与质子数之差是134 B. 的核外电子数是202
C. 和互称为同位素 D. 和是同一种核素
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【题目】CH2=CHCl(氯乙烯,沸点-13.9C)是聚氯己烯的单体。某学习小组依据文献报道用乙烷氧氯化法设计制取氯乙烯。回答下列问题:
(1)甲组同学设计下列装置制备氯化氢和氧气。
①装置A和B用于制备和干燥HCl;浓硫酸显示的性质是_____;导管I的作用是_______;B的后续装置发生堵塞时,玻璃管II出现的现象是____________________。
②装置C制O2时发生反应的离子方程式为____________________。
(2)乙组同学利用甲组制得的氯化氢和氧气并利用下列装置制取氯乙烯。
①装置D除干燥三种气体外,另外两个作用是__________和____________。
②E中发生反应的化学方程式为______________________。
③装置G的作用是______________________。
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【题目】根据化学反应的实质是旧键断裂、新键形成的观点,下列变化没有发生化学键断裂的是
A.电解水B.干冰受热直接变成气体
C.HCl溶解于水D.打雷放电时,O2变成O3
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【题目】下列方程式正确的是
A. 用KIO3氧化酸性溶液中的KI: 5I-+IO3-+3H2O =3I2+6OH-
B. 用稀硝酸洗涤试管内壁的银镜: Ag+2H++NO3-=Ag++NO↑+H2O
C. 将过量SO2通入冷氨水中: SO2+NH3·H2O =HSO3-+NH4+
D. 向NH4HCO3溶液中加过量的NaOH溶液并加热: NH4+ +OH-NH3↑+H2O
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【题目】将Mg、Cu组成的2.64 g混合物投入到100 mL稀硝酸中完全溶解,并收集还原产物NO气体(假设还原产物只有一种)。然后向反应后的溶液中逐滴加入2 mol·L-1NaOH溶液,下图是生成沉淀的质量与滴入NaOH溶液体积间的关系图。
(1)生成的NO在标况下的体积为___________L。
(2)Cu的物质的量为_________mol。
(3)稀硝酸的浓度为___________mol/L。
(4)a的值为_________。
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【题目】标况下,两个容积相同的容器中,一个盛有NH3气体,另一个盛有N2和H2的混合气体。若两容器内的气体具有相等的电子数,则混合气体中N2和H2的物质的量之比为
A. 4:1 B. 1:2 C. 2:1 D. 1:4
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【题目】现有常温下的四份溶液:①0.01 mol/L CH3COOH溶液;②0.01 mol/L HCl溶液;③pH=12的氨水;④pH=12的NaOH溶液。下列说法正确的是
A.①中水的电离程度最小,③中水的电离程度最大
B.将①④混合,若c(CH3COO-)>c(H+),则混合液一定呈碱性
C.将四份溶液分别稀释到原体积相同倍数后,溶液的pH:③>④,②>①
D.将②③混合,若pH=7,则消耗溶液的体积:②>③
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【题目】W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素,其原子半径随原子数变化如图所示已知W的一种核素的质量数为18,中子数为10,X和Ne原子的核外电子数相差1,Y的单质是一种常见的半导体材料,Z的非金属性在同周期元素中最强下列说法正确的是( )
A. 对应简单离子半径:
B. 对应气态氢化物的稳定性
C. 化合物XZW既含离子键,又含共价键
D. Y的氧化物与Z和X的最高价氧化物对应的水化物均能反应
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【题目】硅是重要的半导体材料,构成了现代电子工业的基础.请回答下列问题:
(1)基态Si原子中,电子占据的最高能层符号为 , 该能层具有的原子轨道数为、电子数为 .
(2)硅主要以硅酸盐、等化合物的形式存在于地壳中.
(3)单质硅存在与金刚石结构类似的晶体,其中原子与原子之间以相结合,其晶胞中共有8个原子,其中在面心位置贡献个原子.
(4)单质硅可通过甲硅烷(SiH4)分解反应来制备.工业上采用Mg2Si和NH4Cl在液氨介质中反应制得SiH4 , 该反应的化学方程式为 .
(5)碳和硅的有关化学键键能如下所示,简要分析和解释下列有关事实:
化学键 | C﹣C | C﹣H | C﹣O | Si﹣Si | Si﹣H | Si﹣O |
键能/(kJmol﹣1 | 356 | 413 | 336 | 226 | 318 | 452 |
①硅与碳同族,也有系列氢化物,但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多,原因是 .
②SiH4的稳定性小于CH4 , 更易生成氧化物,原因是 .
(6)在硅酸盐中,SiO4﹣4四面体(如图1)通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式.图(2)为一种无限长单链结构的多硅酸根,其中Si原子的杂化形式为 , Si与O的原子数之比为 , 化学式为 .
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