练习册

  • 练习册
  • 试题
    19．20,14．6% 【查看更多】

     

    题目列表(包括答案和解析)

    从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答-下列问题：
    （1）地壳里各种元素的含量（质量分数）如右图所示，其中表示硅元素的是
     
    （填字母）．
    精英家教网
    （2）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，则常温下硅的化学性质
     
    （选填“活泼”、“不活泼”）．
    （3）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：
    精英家教网
    ①整个制备过程必须达到无水无氧．在H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是
     

    ②由粗硅制取三氯甲硅烷的化学方程式为
     
    ．
    ③在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是
     
    ；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是
     
    ．

    查看答案和解析>>

    从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答下列问题：
    （1）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，则常温下硅的化学性质
    不活泼
    不活泼
    （填“活泼”或“不活泼”）．
    （2）硅在自然界中含量比较丰富，主要以硅酸盐和石英砂存在于地壳中，石英砂的主要成分是二氧化硅，请写出二氧化硅的化学式
    SiO2
    SiO2
    ．
    （3）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如图：

    ①整个制备过程必须达到无水无氧．在H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是
    爆炸
    爆炸
    ．
    ②在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是
    HCl
    HCl
    ；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是
    H2
    H2
    ．

    查看答案和解析>>

    从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答-下列问题：
    （1）地壳里各种元素的含量（质量分数）如右图所示，其中表示硅元素的是________（填字母）．

    （2）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，则常温下硅的化学性质________（选填“活泼”、“不活泼”）．
    （3）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：

    ①整个制备过程必须达到无水无氧．在H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是________
    ②由粗硅制取三氯甲硅烷的化学方程式为________．
    ③在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是________；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是________．

    查看答案和解析>>

    从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答下列问题：
    （1）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，则常温下硅的化学性质________（填“活泼”或“不活泼”）．
    （2）硅在自然界中含量比较丰富，主要以硅酸盐和石英砂存在于地壳中，石英砂的主要成分是二氧化硅，请写出二氧化硅的化学式________．
    （3）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如图：

    ①整个制备过程必须达到无水无氧．在H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是________．
    ②在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是________；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是________．

    查看答案和解析>>

    从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料。请回答下列问题：
    (1) 地壳里各种元素的含量（质量分数)如图所示，其中表示硅元素的是             (填字母)。 
    (2)根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，则常温下硅的化学性质              (选填“活泼”、“不活泼”)。
    (3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：
    ①整个制备过程必须达到无水无氧。在H2还原SiHCl3过程中若混入O2 ，可能引起的后果是                   
    ②由粗硅制取三氯甲硅烷的化学方程式为                  。
    ③在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是                  ；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是                  。

    查看答案和解析>>


    同步练习册答案