(08年广东卷)硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式________。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式____；H2还原SihCl3过程中若混02，可能引起的后果是______     。

（2）下列有头硅材料的详法正确的是_____    （填字母）。

A.碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混

B.氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高

D.盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

E．盐酸可以和硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释_____。