玻璃:原料--石英砂.纯碱.石灰石 成分--硅酸钠.硅酸钙.二氧化硅 设备--熔炉 反应方程式: . 特种玻璃:石英玻璃.光学玻璃.化学仪器.有色玻璃.变色玻璃.钢化玻璃 玻璃刻花反应方程式: 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

硅单质及其化合物应用范围很广,请回答下列问题:

(1)       制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

焦炭

 

HCl

 

提纯

 
 


石英砂

 

SiHCl3(精)

 

SiHCl3(粗)

 

573K以上

 

粗硅

 

高温

 
     

 


①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式                   

②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式                             ;H2还原SiHCl3过程中若混02,可能引起的后果是                                     

(2)下列有关说法正确的是           (填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.普通玻璃的成分有纯碱、石灰石和石英砂,其熔点很高

D.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入盐酸溶液,振荡,则反应的离子方程式是                                                             

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硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题:

(1)

制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式________

②整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式________;H2还原SihCl3过程中若混O2,可能引起的后果是________.

(2)

下列有头硅材料的详法正确的是________.

A.

碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水混

B.

氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.

普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的,其熔点很高

D.

盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)

硅酸钠水溶液俗称水玻璃.取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡.写出实验现象并给予解释________.

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(08年广东卷)硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:

制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式________。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式____;H2还原SihCl3过程中若混02,可能引起的后果是______     。

(2)下列有头硅材料的详法正确的是_____    (填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水混

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的,其熔点很高

D.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

E.盐酸可以和硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释_____。

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硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式    

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式    ;H2还原SiHCl3过程中若混O2,可能引起的后果是       

(2)下列有关硅材料的说法正确的是      (填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水混

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的,其熔点很高

D.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释    

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硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅  的主要方法,生产过程示意图如下:

      

①     写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________。

②     整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式

________________________________________________________________________;

H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是

________________________________________________________________________。

(2)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,      振荡。写出实验现象并给予解释:

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________。

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