氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。

在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H₂O₂ 的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH₃+3H₂O₂=      +6H₂O

工业中常用以下反应合成氨：N₂+3H₂2NH₃  △H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入浓度均为C(N₂)=0.100mol/L, C(H₂)=0.300mol/L进行反应时, N₂的浓度随时间的变化如下图①、②、③曲线所示。

（1）该反应平衡常数的数学表达式             ；实验②平衡时H₂的转化率为_______

（2）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。

②条件：_______      理由：                                      ________

③条件：_______      理由：                                      ________

氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。

（1）在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H₂O₂ 的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH₃  + 3H₂O₂=         +6H₂O

（2）工业中常用以下反应合成氨：N₂+3H₂2NH₃  △H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入N₂和H₂，浓度均为c(N₂) = 0.100mol/L, c(H₂) = 0.300mol/L，进行反应时, N₂的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。

该反应平衡常数的数学表达式为             ；实验②平衡时H₂的转化率为_____        。

（3）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。

②条件：_______      理由：                                      ________

③条件：_______      理由：                                      ________

氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛．
在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H₂O₂ 的清除剂，产物不污染环境．该反应的化学方程式为2NH₃+3H₂O₂=______+6H₂O
工业中常用以下反应合成氨：N₂+3H₂?2NH₃△H＜0．某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入浓度均为C（N₂）=0.100mol/L，C（H₂）=0.300mol/L进行反应时，N₂的浓度随时间的变化如下图①、②、③曲线所示．

（1）该反应平衡常数的数学表达式______；实验②平衡时H₂的转化率为______
（2）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同．请指出，并说明判断的理由．
②条件：______理由：______
③条件：______理由：______．

氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛．
在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H₂O₂ 的清除剂，产物不污染环境．该反应的化学方程式为2NH₃+3H₂O₂=______+6H₂O
工业中常用以下反应合成氨：N₂+3H₂?2NH₃△H＜0．某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入浓度均为C（N₂）=0.100mol/L，C（H₂）=0.300mol/L进行反应时，N₂的浓度随时间的变化如下图①、②、③曲线所示．

（1）该反应平衡常数的数学表达式______；实验②平衡时H₂的转化率为______
（2）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同．请指出，并说明判断的理由．
②条件：______理由：______
③条件：______理由：______．