Question

氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。

在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H₂O₂ 的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH₃+3H₂O₂=      +6H₂O

工业中常用以下反应合成氨：N₂+3H₂2NH₃  △H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入浓度均为C(N₂)=0.100mol/L, C(H₂)=0.300mol/L进行反应时, N₂的浓度随时间的变化如下图①、②、③曲线所示。

（1）该反应平衡常数的数学表达式             ；实验②平衡时H₂的转化率为_______

（2）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。

②条件：_______      理由：                                      ________

③条件：_______      理由：                                      ________

Answer 1

(16分)

N₂（2分）

（1）(3分)  40%（3分）

（2）②加了催化剂；因为加入催化剂能缩短达到平衡的时间，但化学平衡不移动所以①②两装置达到平衡时N₂的浓度相同。（4分）

③温度高；该反应为放热反应，温度升高，达到平衡的时间缩短，但平衡向逆反应方向移动，③中到达平衡时N₂的浓度高于①（4分）