硅的用途:(1)用于制造硅芯片.集成电路.晶体管.硅整流器等半导体器件,制造合金.如含硅4%的钢导磁性好制造变压器的铁芯,含硅15%的钢有良好的耐酸性等. 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

氯碱工业中,通过电解饱和食盐水获得重要的化工原料:氯气、氢气和氢氧化钠.其中氯气用途十分广泛,除用于净水、环境消毒外,还用于生产盐酸、硅、聚氯乙烯、氯苯等.
(1)工业上可用氯气和石灰乳为原料制造漂白粉,漂白粉为
混合物
混合物
(填“纯净物”或“混合物”),制备漂白粉的化学方程式为
Ca(OH)2+2Cl2=CaCl2+Ca(ClO)2+2H2O
Ca(OH)2+2Cl2=CaCl2+Ca(ClO)2+2H2O

(2)工业上生产半导体材料硅的流程如图所示:

①石英砂的主要成分是二氧化硅,在制备粗硅时,焦炭的作用是
还原剂
还原剂
.(填“氧化剂”或“还原剂”)
②粗硅与氯气反应后得到沸点较低的液态四氯化硅,其中常混有一些高沸点、难挥发性杂质,必须进行分离提纯.其提纯方法为
A
A
.(填字母)
A.蒸馏          B.过滤         C.萃取        D.蒸发
③四氯化硅与氢气在高温条件下反应得到高纯硅和氯化氢气体,写出该反应的化学方程式:
SiCl4+2H2
 高温 
.
 
Si+4HCl↑
SiCl4+2H2
 高温 
.
 
Si+4HCl↑

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碳酸钠和碳酸氢钠是生活中常见的物质.请回答下列问题.
(1)碳酸钠俗称
 
,等物质的量的碳酸钠和碳酸氢钠与足量盐酸反应时生成CO2的量,前者
 
后者(填>、<或=).
(2)碳酸氢钠可治疗胃酸(0.2%~0.4%的盐酸)过多,反应的离子方程式为:
 

(3)现有以下物质:①NaCl晶体  ②熔融的KNO3③氨水  ④铝  ⑤Cl2  ⑥酒精(C2H5OH)
请回答下列问题(用序号):
以上物质中能导电的是
 
;以上物质中属于强电解质的是
 

(4)SiO2广泛存在自然界中,其用途也非常广泛,可用于制造光导纤维,也用于生产半导体材料硅.写出工业上用石英制备粗硅的化学反应方程式
 

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有十种物质:①钾钠合金    ②镁铝合金    ③纯碱粉末   ④氢氧化钠固体
⑤浓盐酸   ⑥纯硫酸    ⑦水晶   ⑧明矾   ⑨碳纳米管(石墨)  ⑩氢氧化铁胶体
(1)上述物质中,在给定状态下,能导电的是
 

(2)上述物质用途十分广泛,如镁铝合金可用于火箭、飞机、轮船等制造业,钾钠合金是原子反应堆的导热剂,水晶可以做装饰品,明矾可用作净水剂,明矾溶于水的电离方程式为
 

(3)取一小块镁铝合金,加入到氢氧化钠溶液中,发生反应的离子方程式为
 

(4)用普通硅石与焦炭反应,制备粗硅的化学方程式为
 

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氯气是十分重要的化工原料.它的用途十分广泛,除用于净水、环境消毒外,还用于生产盐酸、硅、聚氯乙烯、氯苯等.

(1)工业上可用氯气和石灰乳为原料制造漂白粉,写出该反应的化学方程式
Ca(OH)2+2Cl2=CaCl2+Ca(ClO)2+2H2O
Ca(OH)2+2Cl2=CaCl2+Ca(ClO)2+2H2O

(2)工业上生产半导体材料硅的流程如下:
①写出在制备粗硅时反应的化学方程式
SiO2+2C
 高温 
.
 
Si+2CO↑
SiO2+2C
 高温 
.
 
Si+2CO↑
,在该反应的化学方程式上用单线桥标出电子的转移方向和数目

②粗硅与氯气反应后得到沸点较低的液态四氯化硅中常混有一些高沸点,难挥发性杂质,必须进行分离提纯.其提纯方法为
A
A
.(填序号)
A.蒸馏        B.过滤         C.萃取       D.结晶
③由四氯化硅通入氢气得到高纯硅和氯化氢气体,写出该反应的化学方程式:
SiCl4+2H2
 高温 
.
 
Si+4HCl↑
SiCl4+2H2
 高温 
.
 
Si+4HCl↑

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有十种物质:①钾钠合金②镁铝合金③纯碱粉末④氢氧化钠固体⑤浓盐酸⑥纯硫酸⑦水晶⑧明矾⑨碳纳米管(石墨)⑩氢氧化铁胶体
(1)上述物质中,在给定状态下,能导电的是
 

(2)上述物质用途十分广泛,如镁铝合金可用于火箭、飞机、轮船等制造业,钾钠合金是原子反应堆的导热剂,水晶可以做装饰品,明矾可用作净水剂,明矾溶于水的电离方程式为
 

(3)取一小块镁铝合金,加入到氢氧化钠溶液中,发生反应的离子方程式为
 

(4)用普通硅石与焦炭反应,制备粗硅的化学方程式为
 

(5)取0.84g NaHCO3和1.06g Na2CO3的混合物,将其配成1L溶液,取100mL溶液,然后用0.10mol/L稀盐酸进行滴定,以生成物的物质的量为纵坐标,盐酸的体积为横坐标,请绘出溶液中NaHCO3、Na2CO3、NaCl的物质的量随盐酸体积变化的曲线图.(曲线用化学式标明)

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