Question

【题目】硅是一种重要的半导体材料，应用范围广。三氯硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程如图所示：

（1）写出上述流程中一种氧化物的化学式：；
（2）上述流程中最后一步反应的化学方程式为 ， 该反应属于(填基本反应类型)反应；
（3）如果还原SiHCl3过程中混入O2 ， 可能引起的后果是；
（4）该流程中可以循环利用的物质的化学式是。

Answer 1

【答案】
（1）SiO2
（2）SiHCl3＋H2 Si＋3HCl；置换
（3）爆炸
（4）HCl
【解析】(1)上述流程中的氧化物是二氧化硅，化学式分别是SiO2；(2)三氯甲硅烷和氢气反应的化学方程式为：SiHCl3＋H2 Si＋3HCl；(3)如果还原SiHCl3过程中混入O2 ， 氧气和氢气混合达到一定程度时，在高温条件下会发生爆炸；(4)该流程中可以循环利用的物质是HCl。
故答案为：（1）SiO2（2）SiHCl3＋H2 Si＋3HCl；置换（3）爆炸；（4）HCl（1）根据物质的组成分析属于氧化物的物质
（2）根据反应物生成物反应条件结合方程式的书写方法解答，A+ＢＣ＝ＡＣ＋Ｂ属于置换反应
（3）根据氢气和氧气混合点燃爆炸分析
（４）利用流程图分析