【题目】H2O2俗称双氧水,医疗上常用3%的双氧水进行伤口或耳炎消毒。下列关于H2O2的说法正确的是( )
A. H2O2分子中含有氢离子
B. H2O2分子中既有离子键,又有共价键
C. H2O2属于共价化合物
D. H2O2属于H2和O2组成的混合
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【题目】在“HI(s) → HI(g) → H2和I2”的变化过程中,被破坏的作用力依次是
A. 分子间作用力、分子间作用力B. 分子间作用力、共价键
C. 共价键、离子键D. 共价键、共价键
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【题目】相等物质的量的CO和CO2的下列比较中正确的是()
所含的分子数目之比为1:1
所含的氧原子数目之比为1:1
所含的原子总数目之比为2:3
所含的碳原子数目之比为1:1
A. B. C. D.
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【题目】单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用焦炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
物 质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | - | - | - |
升华温度/℃ | - | - | 180 | 300 | 162 |
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式。
(2)装置A中g管的作用是;装置C中的试剂是;装置E中的h瓶需要冷却的理由是。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是(填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成
Fe2+ , 再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:5Fe2++MnO4-+8H+=5Fe3++Mn2++4H2O
①滴定前是否要滴加指示剂?(填“是”或“否”),请说明理由。
②某同学称取5.000g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100mL溶液,移取25.00mL试样溶液,用1.000×10-2mol·L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00mL,则残留物中铁元素的质量分数是。
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【题目】现有一种以黄铜矿和硫磺为原料制取铜和其他产物的新工艺,原料的综合利用率较高.其主要流程如图:
注:反应Ⅱ的离子方程式为Cu2++CuS+4Cl﹣=2[CuCl2]﹣+S↓
请回答下列问题:
(1)反应Ⅲ中的CuCl2﹣中铜元素的化合价为 , 传统工艺制铜是将铜矿砂与空气在高温下煅烧,使这种方
法的缺点是要消耗大量的热能以及(完成合理的一种即可).
(2)为使反应Ⅰ中充分进行,工业可采取的措施是 , 反应Ⅰ生成12gFeS2转移的电子数为 .
(3)反应Ⅲ的离子方程式为 , 一定温度下,在反应Ⅲ所得的溶液中加入稀硫酸,可以析出硫酸铜晶
体,其可能的原因是 .
(4)工业上炼钢时,可将铁红投入熔融的生铁中,炼钢时为了降低含碳量,该过程中主要反应的化学方程
式是 . 工业上可以用NaOH溶液或氨水吸收过量的SO2 , 分别生成NaHSO3、NH4HSO3 , 其水溶液均
呈酸性,相同条件下,同浓度的两种水溶液中c(SO32﹣)较小的是 .
(5)某硫酸厂为测定反应Ⅳ所得气体中SO2的体积分数,取280mL(已折算成标准状况)气体样品与足量
Fe2(SO4)3溶液完全反应后,用浓度为0.02000molL﹣1的K2Cr2O7标准溶液滴定至终点,消耗K2Cr2O7溶液25.00mL,已知Cr2O72﹣+Fe2++H+→Cr3++Fe3++H2O(未配平)反应Ⅳ所得气体中SO2的体积分数为 .
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【题目】金属铬和氢气在工业上都有重要的用途.已知:铬能与稀硫酸反应,生成氢气和硫酸亚铬(CrSO4).铜铬构成原电池如图所示,盐桥中装的是饱和KCl琼脂溶液,下列关于此电池的说法正确的是( )
A.盐桥的作用是使整个装置构成通路、保持溶液呈电中性,凡是有盐桥的原电池,盐桥中均可以用饱和KCl琼脂溶液
B.理论上1molCr溶解,盐桥中将有2molCl﹣进入左池,2molK+进入右池
C.此过程中H+得电子,发生氧化反应
D.电子从铬极通过导线到铜极,又通过盐桥到转移到左烧杯中
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