Question

W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如图所示，已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z的吸引电子的能力在同周期主族元素中最大．请回答下列问题：
（1）X元素位于元素周期表中第

 

周期

 

族．
（2）X的单质和Y的单质相比，熔点较高的是

 

（写化学式）；Z的气态氢化物和溴化氢相比．较稳定的是

 

（写化学式）．
（3）Y与Z形成的化合物和足量水反应，生成一种弱酸和一种强酸，该反应的化学方程式是

 

．

Answer 1

考点：位置结构性质的相互关系应用

专题：

分析：W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，W的一种核素的质量数为18，中子数为10，则其质子数为18-10=8，故W为O元素；X和Ne原子的核外电子数相差1，原子半径大于O，故X为Na；由原子序数可知，Y、Z处于第三周期，而Y的单质是一种常见的半导体材料，则Y为Si，Z的吸引电子的能力在同周期主族元素中最大，则Z为Cl，据此解答．

解答： 解：W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，W的一种核素的质量数为18，中子数为10，则其质子数为18-10=8，故W为O元素；X和Ne原子的核外电子数相差1，原子半径大于O，故X为Na；由原子序数可知，Y、Z处于第三周期，而Y的单质是一种常见的半导体材料，则Y为Si，Z的吸引电子的能力在同周期主族元素中最大，则Z为Cl，
（1）X为Na元素，位于元素周期表中第三周期IA族，故答案为：三、IA；
（2）金属Na的熔点较低，Si属于原子晶体，熔点很高，故Si的熔点较高；非金属性Cl＞Br，故氢化物稳定性HCl＞HBr，故答案为：Si；HCl；
（3）Y与Z形成的化合物为SiCl₄，和足量水反应，生成一种弱酸和一种强酸，应生成H₄SiO₄与HCl，该反应的化学方程式是：SiCl₄+4H₂O=H₄SiO₄+4HCl，故答案为：SiCl₄+4H₂O=H₄SiO₄+4HCl．

点评：本题考查位置结构性质关系等，难度中等，推断元素是解题的关键，注意对元素周期律的理解与运用．