【题目】黄曲霉素的结构如图,下列关于该有机物的性质叙述正确的是( )
A.1mol该化合物最多消耗和NaOH分别为6mol和2mol
B.该化合物中含有三种官能团
C.该化合物中含有2个苯环结构
D.该化合物可以和1mol发生加成反应
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【题目】将镁铝合金溶于100mL稀硝酸中,产生1.12LNO气体(标准状况),向反应后的溶液中加入NaOH溶液,产生沉淀与加入氢氧化钠体积(mL)情况如图所示。下列说法不正确的是( )
A.原溶液中c(HNO3)=1.8mol/LB.沉淀最大质量为4.08g
C.n(Mg):n(Al)=1:1D.氢氧化钠溶液浓度为3mol/L
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【题目】常温下,pH均为2、体积均为V0的HA、HB、HC溶液,分别加水稀释至体积为V,溶液pH随lg的变化关系如图所示,下列叙述错误的是( )
A.常温下:Ka(HB)>Ka(HC)
B.HC的电离度:a点<b点
C.当lg=4时,三种溶液同时升高温度,减小
D.当lg=5时,HA溶液的pH为7
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【题目】下列方程式书写正确的是( )
A.HCO3-在水溶液中的电离方程式:HCO3- +H2OH3O++CO32-
B.H2SO3的电离方程式H2SO32H++SO32-
C.CO32-的水解方程式:CO32- +2H2OH2CO3+2OH-
D.CuSO4的水解方程式: Cu2++2H2O=Cu(OH)2↓+2H+
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【题目】头孢拉定又名先锋霉素,是常用的一种抗生素,其结构简式如图:
下列说法不正确的是( )
A. 头孢拉定的分子式是C16H19N3O4S,分子中有多种官能团
B. 头孢拉定与Na2CO3溶液、NaHCO3溶液都可以反应
C. 1mol头孢拉定最多可与6molH2和5mol Br2发生加成反应
D. 头孢拉定既可与盐酸反应,也可与NaOH溶液反应
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【题目】将Mg、Al组成的mg混合物投入一定量稀HCl中,固体完全溶解,收集到气体为1.12L(标准状况),向反应后溶液中加入2 mol/L NaOH溶液60mL时,金属离子恰好沉淀完全,则形成沉淀的质量为( )
A.(m+1.7)gB.(m+2.04)gC.(m+3.4)gD.(m+4.08)g
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【题目】某有机物X的结构简式如图所示,下列有关说法正确的是( )
A.可用溶液区分X和苯酚
B.在加热条件下,1molX最多能与2molNaOH反应
C.若1molX在酸性条件下的能水解完全,其产物最多能与2molNa反应
D.分子含有三种官能团,且两种官能团在催化剂条件下能与氢气加成
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【题目】研究表明,纳米0价金属能去除地下水中的NO3-,不同初始pH和不同金属组成对NO3-的去除效果如图所示。图1初始pH=5.5,图2初始pH=2,NO3-初始浓度均为50mg·L-1,纳米级金属添加量均为2g·L-1。下列说法正确的是
A.纳米铁的去除效果优于纳米镍
B.图2纳米铁反应60mn时NO3-去除率67.2%,则60min内
C.当加入的金属是Fe0/Ni05/1,在不同的初始pH下,经过60min后,NO3-的去除率相等
D.其他条件相同时,若pH过低,可能会导致去除率下降
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【题目】高纯度晶体硅是良好的半导体材料,它的发现和使用引起了计算机的一场“革命”。它可以按下列方法制备:
SiO2Si(粗)SiHCl3Si(纯)
下列说法不正确的是( )
A.步骤③中氢气作还原剂
B.硅和二氧化硅都能用作计算机“芯片”
C.步骤①的化学方程式为:SiO2+2CSi+2CO↑
D.步骤①②③中发生的反应都属于氧化还原反应
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