【题目】下列说法不正确的是
A.向某溶液中滴加KSCN溶液,溶液呈血红色,证明存在Fe3+
B.氢氧化钠溶液保存在带橡皮塞的试剂瓶中
C.漂白粉常作环境消毒剂
D.工业上用电解饱和食盐水来制取金属钠
科目:高中化学 来源: 题型:
【题目】常温下向20mL0.1mol/LHA溶液中逐滴加入0.1mol/LNaOH溶液,其pH变化情况如图所示(忽略温度变化).下列说法中不正确的是( )
A.由题可知HA为弱酸
B.滴定终点位于c和d点之间
C.滴定到b点时:n(Na+)+n(H+)﹣n(OH﹣)+n(HA)=0.002mol
D.滴定到d点时:c(OH﹣)>c(Na+)>c(A﹣)>c(H+)
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【题目】未来新能源的特点是资源丰富,在使用时对环境无污染或很少污染,且有些可以再生.下列属最有希望的新能源的是( )
①天然气 ②煤 ③核能 ④水电 ⑤太阳能 ⑥燃料电池 ⑦风能 ⑧氢能.
A.①②③④
B.⑤⑥⑦⑧
C.③④⑤⑥
D.除①②外
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【题目】下列对水体污染物的处理方法中,不正确的是
A.含盐酸的酸性废水用中和法处理B.含Cu2+、Fe3+的废水用沉淀法处理
C.含有细菌的污水用臭氧杀菌D.含有重金属离子的废水用明矾处理
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【题目】在“HI(s) → HI(g) → H2和I2”的变化过程中,被破坏的作用力依次是
A. 分子间作用力、分子间作用力B. 分子间作用力、共价键
C. 共价键、离子键D. 共价键、共价键
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【题目】硅单质及其化合物应用很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、
HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式;H2
还原SiHCl3过程中若混有O2 , 可能引起的后果是。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是( )。
A.单质硅化学性质稳定,但可以被强碱溶液腐蚀
B.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
D.光导纤维的主要成分是SiO2
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入盐酸,
振荡。写出实验现象并给予解释(用化学方程式说明)。
(4)在人体器官受到损伤时,需要使用一种新型无机非金属材料来植入体内,这种材料是________(填字母)。
A.高温结构陶瓷
B.生物陶瓷
C.导电陶瓷
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【题目】相等物质的量的CO和CO2的下列比较中正确的是()
所含的分子数目之比为1:1
所含的氧原子数目之比为1:1
所含的原子总数目之比为2:3
所含的碳原子数目之比为1:1
A. B. C. D.
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【题目】现有一种以黄铜矿和硫磺为原料制取铜和其他产物的新工艺,原料的综合利用率较高.其主要流程如图:
注:反应Ⅱ的离子方程式为Cu2++CuS+4Cl﹣=2[CuCl2]﹣+S↓
请回答下列问题:
(1)反应Ⅲ中的CuCl2﹣中铜元素的化合价为 , 传统工艺制铜是将铜矿砂与空气在高温下煅烧,使这种方
法的缺点是要消耗大量的热能以及(完成合理的一种即可).
(2)为使反应Ⅰ中充分进行,工业可采取的措施是 , 反应Ⅰ生成12gFeS2转移的电子数为 .
(3)反应Ⅲ的离子方程式为 , 一定温度下,在反应Ⅲ所得的溶液中加入稀硫酸,可以析出硫酸铜晶
体,其可能的原因是 .
(4)工业上炼钢时,可将铁红投入熔融的生铁中,炼钢时为了降低含碳量,该过程中主要反应的化学方程
式是 . 工业上可以用NaOH溶液或氨水吸收过量的SO2 , 分别生成NaHSO3、NH4HSO3 , 其水溶液均
呈酸性,相同条件下,同浓度的两种水溶液中c(SO32﹣)较小的是 .
(5)某硫酸厂为测定反应Ⅳ所得气体中SO2的体积分数,取280mL(已折算成标准状况)气体样品与足量
Fe2(SO4)3溶液完全反应后,用浓度为0.02000molL﹣1的K2Cr2O7标准溶液滴定至终点,消耗K2Cr2O7溶液25.00mL,已知Cr2O72﹣+Fe2++H+→Cr3++Fe3++H2O(未配平)反应Ⅳ所得气体中SO2的体积分数为 .
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【题目】取三张蓝色石蕊试纸湿润后贴在玻璃片上,然后按顺序分别滴加浓硝酸、98.3%的浓硫酸、新制氯水,三张试纸最终变成
A.白、红、白 B.红、黑、白 C.红、红、红 D.白、黑、白
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