Question

【题目】高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。这种材料可以按下列方法制备，下列说法正确的是

SiO2 Si(粗) SiHCl3 Si(纯)

A. 步骤①的化学方程式为SiO2＋CSi＋CO2↑

B. 步骤①、②、③中每生成或反应1 mol Si，转移2 mol电子

C. 二氧化硅能与氢氟酸反应，而硅不能与氢氟酸反应

D. SiHCl3(沸点33.0 ℃)中含有少量的SiCl4(沸点67.6 ℃)，通过蒸馏可提纯SiHCl3

Answer 1

【答案】D

【解析】

二氧化硅与碳高温条件下生成硅和一氧化碳；SiO2 Si(粗)，硅元素化合价由+4变为0；硅能与氢氟酸反应生成SiF4和氢气； SiHCl3(沸点33.0 ℃)、SiCl4(沸点67.6 ℃)，沸点相差较大。

步骤①的化学方程式为SiO2＋2CSi＋2CO↑，故A错误；SiO2 Si(粗)，硅元素化合价由+4变为0，生成1 mol Si，转移4mol电子，故B错误；硅能与氢氟酸反应生成SiF4和氢气，故C错误；SiHCl3(沸点33.0 ℃)、SiCl4(沸点67.6 ℃)，沸点相差较大，可以通过蒸馏提纯SiHCl3，故D正确。