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【题目】下列反应中,硫酸既表现出强氧化性,又表现出酸性的是(
A.稀硫酸与锌粒反应生成气体
B.浓硫酸使铁、铝钝化
C.浓硫酸与铜反应加热反应产生SO2
D.浓硫酸和木炭在加热条件下反应

【答案】C
【解析】解:A.稀硫酸与锌粒反应生成气体,只表现硫酸的酸性,故A不选; B.浓硫酸使铁、铝钝化,只表示硫酸的强氧化性,故B不选;
C.铜与浓硫酸反应生成硫酸铜、二氧化硫和水,硫酸既表现出了强氧化性又表现了酸性,故C选;
D.木炭粉与浓硫酸反应生成二氧化碳和二氧化硫、水,只表示硫酸的强氧化性,故D不选;
故选:C.

练习册系列答案
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科目:高中化学 来源: 题型:

【题目】常温下,一定浓度的某溶液,由水电离的出的c(OH-)=1×10-4 mol/L,则该溶液中的溶质可能是

A.H2SO4 BNaOH CKHSO4 DCH3COONa

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科目:高中化学 来源: 题型:

【题目】化学—物质结构与性质图是元素周期表的一部分。已知R的核电荷数小于36,气态氢化物沸点:MHn>YHn

(1)表中五种元素第一电离能最大的是 (填元素符号)Y的最简单氢化物分子的空间构型为 基态R原子中有 个未成对电子。

(2)Y的最高价氧化物熔点比M的最高价氧化物熔点低,原因是 YZσ键与π键的数比为

(3)YO32中Y原子的杂化方式是 写出一种与YO32互为等电子体的粒子 (用化学符号表示)。

(4)Z的一种常见氢化物能与硫酸铜反应生成配合物。请用结构表示该配合物中的阳离子:

(5)如图为某金属单质的面心立方晶胞结构示意图,该晶体中配位数是 测得此晶体的密度为2.7g.cm3,晶胞的边长为0.405nm,则此金属原子的相对原子质量为 (结果保留整数)。

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科目:高中化学 来源: 题型:

【题目】决定化学反应速率的主要因素是(
A.反应物本身的性质
B.催化剂
C.温度
D.压强

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科目:高中化学 来源: 题型:

【题目】用pH试纸测定某无色溶液的pH时,规范的操作是(

A.将pH试纸放入溶液中观察其颜色变化,跟标准比色卡比较

B.将溶液倒在pH试纸上,跟标准比色卡比较

C.用干燥的洁净玻璃棒蘸取溶液,滴在pH试纸上,跟标准比色卡比较

D.在试管内放入少量溶液,煮沸,把pH试纸放在管口,观察颜色,跟标准比色卡比较

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科目:高中化学 来源: 题型:

【题目】W、X、Y、Z是短周期元素,其部分性质如下表:

W

单质是淡黄色固体

X

在地壳中的含量居第二位

Y

原子最外层电子数是电子总数的2/3

Z

第3周期原子半径最小的金属

下列说法正确的是

A. 气态氢化物的热稳定性:X>W

B. 非金属性:Y < W;离子半径:Z > W

C. W在空气中充分燃烧所得产物,可用于杀菌消毒

D. 金属Z与少量NaOH溶液反应,生成两性氢氧化物

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科目:高中化学 来源: 题型:

【题目】(12分)图表法是常用的科学研究方法,下表列出了同周期的四种短周期元素的部分性质(“电负性”即元素对应原子吸引电子能力的标度):

元素编号

A

B

C

D

E

电负性

3.0

2.5

X[

1.5

0.9

原子半径(单位nm)

0.099

0.102

0.110

0.143

0.186

主要化合价

-1,+7

-2,+6

-3,+5

+3

+1

请回答下列问题:

(1)写出E元素的离子结构示意图

(2)X的值应为 (填字母);

A.3.6 B.3.1 C.2.1 D.1.4

(3)分析表中数据,简述同周期元素(除惰性气体)电负性大小与原子半径的关系

(4)A、B、C三种元素形成的氢化物中,其稳定性由强到弱的顺序是: (用化学式表示)

(5)A、D最高价氧化物对应水化物相互反应的化学方程式:

(6)D、E最高价氧化物对应水化物相互反应的离子方程式:

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科目:高中化学 来源: 题型:

【题目】已知可逆反应aA+bBcC中,物质的含量A%和C%随温度的变化曲线如图所示,下列说法正确的是

A.该反应在T1、T3温度时达到过化学平衡

B.该反应在T2温度时达到过化学平衡

C.该反应的逆反应是放热反应

D.升高温度,平衡会向正反应方向移动

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科目:高中化学 来源: 题型:

【题目】晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:

高温下用炭还原二氧化硅制得粗硅;

粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2

SiHCl3与过量H2在1000~1100 反应制得纯硅。

已知:SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃。

请回答下列问题:

(1)第步制备粗硅的化学方程式为_____________________。

(2)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去):

装置B中的试剂是________。装置C中的烧瓶需要加热,其目的是_________________。

反应一段时间后,装置D中观察到的现象是________________,装置D中发生反应的化学方程式为__________________________。

为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及__________________________。

SiHCl3的电子式为________,SiHCl3与H2O反应的化学方程式为:_________________。

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