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【题目】常温下,向1L0.1molL1NH4Cl溶液中,不断加入固体NaOH后,NH4+与NH3H2O的变化趋势如图所示(不考虑体积变化和氨的挥发),下列说法正确的是(

A.M点溶液中水的电离程度比原溶液大
B.在M点时,n(OH)﹣n(H+)=(a﹣0.05)mol
C.随着NaOH的加入, 不断增大
D.当n(NaOH)=0.05mol时溶液中有:c(Cl)>c(Na+)>c(NH4+)>c(OH)>c(H+

【答案】B
【解析】解:A.M点是向1L 0.1molL1NH4Cl溶液中,不断加入NaOH固体后反应得到氯化铵和一水合氨溶液,铵根离子浓度和一水合氨浓度相同,一水合氨是一元弱碱抑制水电离,此时水的电离程度小于原氯化铵溶液中水的电离程度,故A错误;
B.在M点时溶液中存在电荷守恒,n(0H)+n(Cl)=n(H+)+n(Na+)+n(NH4+),n(0H)﹣n(H+)=0.05+n(Na+)﹣n(Cl)=(a﹣0.05)mol,故B正确;
C.铵根离子水解显酸性,结合水解平衡常数分析 × = ,随氢氧化钠固体加入,反应生成一水合氨浓度增大,平衡常数不变,则 减小,故C错误;
D.向1L 0.1molL1NH4Cl溶液中,不断加入NaOH固体后,当n(NaOH)=0.05mol时,得到物质的量均为0.05molNH4Cl、0.05molNaCl和0.05molNH3H2O的混合物,由于NH3H2O电离大于NH4Cl水解,故离子浓度大小关系为:c(Cl)>c(NH4+)>c(Na+)>c(OH)>c(H+),故D错误.
故选B.
A.M点是向1L 0.1molL1NH4Cl溶液中,不断加入NaOH固体后反应得到氯化铵和一水合氨溶液,铵根离子浓度和一水合氨浓度相同,一水合氨是一元弱碱抑制水电离;
B.依据溶液中电荷守恒分析判断,n(Na+)=amol,n(Cl)=1mol; C.铵根离子水解显酸性,结合水解平衡常数分析, × = ; D.向1L 0.1molL1NH4Cl溶液中,不断加入NaOH固体后,当n(NaOH)=0.05mol时,得到物质的量均为0.05molNH4Cl、0.05molNaCl和0.05molNH3H2O的混合物.

练习册系列答案
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(2)一种用工业硅(含少量钾、钠、铁、铜的氧化物),已知硅的熔点是1420℃,高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅.一种合成氮化硅的工艺主要流程如图:
①净化N2和H2时,铜屑的作用是;硅胶的作用是
②在氮化炉中3SiO2(s)+2N2(g)═Si3N4(s)△H=﹣727.5kJ/mol,开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度;体系中要通入适量的氢气是为了
③X可能是(选填:“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氢氟酸”).
(3)工业上可以通过如图2所示的流程制取纯硅:
①个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应,写出该反应的化学方程式
②假设每一轮次制备1mol纯硅,且生产过程中硅元素没有损失,反应Ⅰ中HCl的利 用率为90%,反应Ⅱ中H2的利用率为93.75%.则在第二轮次的生产中,补充投入HCl和H2的物质的量之比是

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【题目】把aL一个大气压,120℃的氢气氧气混合于密闭容器中,电火花引爆后恢复至原状态,测得体积为bL,则下列表述不可能正确的是(
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B.7b=4a
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