①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

③SiHCl₃与过量H₂在1 000—1 100 ℃反应制得纯硅

已知SiHCl₃能与H₂O强烈反应，在空气中易自燃。

请完成下列问题：

(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为______________________________。

(2)粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl₃(沸点33.0 ℃)中含有少量SiCl₄(沸点57.6 ℃)和HCl(沸点-84.7 ℃)，提纯SiHCl₃采用的方法为_____________________。

(3)用SiHCl₃与过量H₂反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去)：

①装置B中的试剂是_______________________。装置C中的烧瓶需要加热，其目的是___________________________________。

②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是__________________________，装置D不能采用普通玻璃管的原因是___________________________________，装置D中发生反应的化学方程式为_______________________________________。

③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及________________________________。

①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl₃：Si+3HClSiHCl₃+H₂

③SiHCl₃与过量H₂在1000～1100℃反应制得纯硅

已知SiHCl₃能与H₂O强烈反应，在空气中易自燃。

请回答下列问题：

(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为_______________________________。

(2)粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl₃(沸点33.0℃)中含有少量SiCl₄(沸点57.6℃)和HCl(沸点-84.7℃)，提纯SiHCl₃采用的方法为____________________。

(3)用SiHCl₃与过量H₂反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去)：

①装置B中的试剂是_________________________。

  装置C中的烧瓶需要加热，其目的是_____________________________________。

②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是______________________________________，装置D不能采用普通玻璃管的原因是____________________________________，装置D中发生反应的化学方程式为__________________________________________。

③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及______________________________________。

④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂(填写字母代号)是_________________。

a.碘水    b.氯水    c.NaOH溶液    d.KSCN溶液    e.Na₂SO₃溶液

①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl₃:

Si+3HClSiHCl₃+H₂

③SiHCl与过量H₂在1 000—1 100℃反应制得纯硅

已知SiHCl₃能与H₂O强烈反应，在空气中易自然。

请回答下列问题：

(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为__________________________________________。

(2)粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl₃(沸点33.0℃)中含有少量SiCl₄(沸点57.6℃)和HCl(沸点-84.7℃),提纯SiHCl₃采用的方法为_______。

(3)用SiHCl₃与过量H₂反应制备纯硅的装置如图1-3-8(热源及夹持装置略去)：

图1-3-8

①装置B中的试剂是_______。

装置C中的烧瓶需要加热，其目的是_____________________________________________。

②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是______________________________________。

装置D不能采用普通玻璃管的原因是_______________，装置D中发生反应的化学方程式为______________________________。

③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及_______。

④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂(填写字母代号)是_______。

a.碘水  b.氯水  c.NaOH溶液  d.KSCN溶液  e.Na₂SO₃溶液

晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅；
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl₃：Si＋3HClSiHCl₃＋H₂；
③SiHCl₃与过量H₂在1 000～1 100 ℃反应制得纯硅已知SiHCl₃能与H₂O强烈反应，在空气中易自燃。
请回答下列问题：
(1)第①步制备粗硅的化学方程式为_____________________________________________。
(2)粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl₃(沸点33.0 ℃)中含有少量SiCl₄(沸点57.6 ℃)和HCl(沸点－84.7 ℃)，提纯SiHCl₃采用的方法为___________________________。
(3)用SiHCl₃与过量H₂反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去)：

①装置B中的试剂是________。装置C中的烧瓶需要加热，其目的是________________________________________________________________。
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是________，装置D不能采用普通玻璃管的原因是____________，装置D中发生反应的化学方程式为_____________________________________________________________。
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及___________________________________________________________。