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【题目】半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅: SiO2(s)(石英砂)+2C(s)═Si(s)(粗硅)+2CO(g),△H=682.44kJ/mol
Si(s)(粗硅)+2Cl2(s)═SiCl4(g),△H=﹣657.01kJ/mol
SiCl4(g)(纯硅)+2Mg(s)═2MgCl2(s)+Si(s),△H=﹣625.63kJ/mol
生产1.00kg纯硅的总反应热为(  )
A.2.43×104kJ
B.﹣2.35×104kJ
C.﹣2.23×104kJ
D.﹣2.14×104kJ

【答案】D
【解析】解:由三个热化学方程式可知,生成1mol纯硅,需要热量:682.44kJ+(﹣657.01kJ)+(﹣625.63kJ)=﹣600.2kJ,

n(Si)= =35.71mol,

则生产1.00kg纯硅的总反应热为35.75mol×(﹣600.2kJ/mol)=﹣2.14×104kJ,

故选D.

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A. DNA B. RNA C. 蛋白质 D. 蛋白质和核酸

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【题目】有a、b、c、d四个金属电极,G为电流计,有关的反应装置及部分反应现象记录如下:

实验
装置

部分实
验现象

a极质量减小
b极质量增加

溶液中的SO42向b极移动

d极溶解c极
有气体产生

电子从d极
流向a极

由此可判断这四种金属的活动性顺序是(  )
A.d>a>b>c
B.a>b>c>d
C.b>c>d>a
D.a>b>d>c

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(1)反应前混合气体中N2和 H2的体积比为
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A.升高温度,逆反应速率减小
B.该反应的焓变为正值
C.恒温恒容下,增大压强,H2浓度一定减小
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物质

C2H5OH

CH3SiCl3

ClCH2SiCl3

ClCH2Si(OEt)3

相对分子质量

46

149.5

184

212.5

熔点/℃

-114.1

-77.8

沸点/℃

78.3

66.4

116.5

174

密度/g·mL

0.79

1.30

1.47

1.02

已知:甲基三氯硅烷为无色液体,具有刺鼻恶臭,易潮解;氯甲基三乙氧基硅烷易水解,能与碱金属氢氧化物生成碱金属硅醇盐。

(1)连接好装置后,检验装置气密性的操作是:_________________________________

(2)A装置中发生反应的离子方程式是:_______________________________________

装置C的作用是:_____________________ ;E中所装液体是:______________

(3)装置D中发生反应的化学方程式为:① CH3SiCl3 + Cl2 ClCH2SiCl3 + HCl

__________________________________________________________________

球形冷凝管的作用是:________________________

(4)有同学发现该装置有一处不足可能会导致实验失败,应该__________________________________________________

(5) 该方法制备氯甲基三乙氧基硅烷的产率是:_______________(保留两位有效数字)。

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A.在任何溶液中,若有CaSO4沉淀析出,则c(Ca2+)与c(SO42)一定相等
B.d点溶液通过蒸发可以变到c点
C.a点对应的Ksp等于c点对应的Ksp
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