[题目]二氯二氢硅(SiH2C12)常作于外延法工艺中重要的硅源.易燃.有毒,与水接触易水解.沸点8.2℃.在铜催化作用下,HCl 与硅在250-260℃反应可以制得SiH2Cl2. (1) 利用浓硫酸.浓盐酸为原料.选用A 装置制取HC1,利用了浓硫酸的性.(2)D 装置中生成二氯二氢硅的化学方程式为 .(3) 按照气体从左到右方向.制取SiH2Cl2的装置连接� 题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

【题目】二氯二氢硅(SiH2C12)常作于外延法工艺中重要的硅源。易燃、有毒,与水接触易水解，沸点8.2℃。在铜催化作用下,HCl 与硅在250-260℃反应可以制得SiH2Cl2.

(1) 利用浓硫酸、浓盐酸为原料，选用A 装置制取HC1,利用了浓硫酸的_______性。

(2)D 装置中生成二氯二氢硅的化学方程式为___________________。

(3) 按照气体从左到右方向，制取SiH2Cl2的装置连接次序为a→___→___→f→g→___→___→____→_____(填仪器接口的字母,其中装置C 用到2 次).其中装置B 的作用是____；前面装置C 中装的药品为______，后面装置C的作用为____________。

(4)新的制取SiH2Cl2 方法是: 往硅粉中先通入Cl2在300-350℃反应生成SiCl4,然后再与HCl 在250-260℃反应，可以大大提高产率。如果通入气体次序相反，产率会降低，其原因是__________(用化学方程式表示).

【答案】吸水 Si+2HCl SiH2Cl2； d e b c d e 收集 SiH2Cl2 无水 CaCl2 除去多余 HCl，以免污染环境，同时吸收空气中的水，以免与 SiH2Cl2 反应 SiH2Cl2+2Cl2 SiCl4+2HCl

【解析】(1)利用浓硫酸、浓盐酸为原料，浓硫酸有吸水性，使浓盐酸更易挥发出HCl，故答案为：吸水；

(2)D装置中生成二氯二氢硅的化学方程式为Si+2HClSiH2Cl2，故答案为：Si+2HClSiH2Cl2；

(3)A装置制取HCl，连接C装置干燥，为a-d-e，从f进入D中反应，SiH2Cl2从g处挥发，在B装置中收集，SiH2Cl2密度比空气重，导气管应长进短出，为防止空气中的水进入B中，则应在B后接干燥管，其中装置B的作用为收集 SiH2Cl2，前面装置C是干燥氯化氢气体，故应选酸性P2O5或中性CaCl2干燥剂，后面装置C可以除去多余 HCl，以免污染环境，同时吸收空气中的水，以免与 SiH2Cl2 反应，故顺序为：adefgbcde；故答案为：d；e；b；c；d；e；收集 SiH2Cl2；无水 CaCl2；除去多余 HCl，以免污染环境，同时吸收空气中的水，以免与 SiH2Cl2 反应；

(4)往硅粉中先通入Cl2在300-350℃反应生成SiCl4，然后再与HCl在250-260℃反应，可以大大提高产率。如果通入气体次序相反，会造成SiH2Cl2与Cl2反应，SiH2Cl2+2Cl2SiCl4+2HCl(或SiH2Cl2+Cl2SiHCl3+HCl)，产率降低，故答案为：SiH2Cl2+2Cl2SiCl4+2HCl(或SiH2Cl2+Cl2SiHCl3+HCl)。

练习册系列答案

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