等物质的量的下列化合物在相应条件下完全分解后得到氧气最多的是
A.KClO3(加MnO2催化剂,加热) B.KMnO4(加热)
C.H2O2(水溶液,加MnO2催化剂) D.HgO(加热)
科目:高中化学 来源: 题型:
向盛有KI溶液的试管中加入少许CCl4后滴加氯水,CCl4层变成紫色。如果继续向试管中滴加氯水,振荡,CCl4层会逐渐变浅,最后变成无色。
完成下列填空:
1)写出并配平CCl4层由紫色变成无色的化学反应方程式(如果系数是1,不用填写):
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2)整个过程中的还原剂是 。
3)把KI换成KBr,则CCl4层变为__色:继续滴加氯水,CCl4层的颜色没有变化。Cl2、HIO3、HBrO3氧化性由强到弱的顺序是 。
4)加碘盐中含碘量为20mg~50mg/kg。制取加碘盐(含KIO3的食盐)1000kg,若庄Kl与Cl2反应制KIO3,至少需要消耗Cl2 L(标准状况,保留2位小数)。
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科目:高中化学 来源: 题型:
用括号中的试剂和方法除去各组物质中的少量杂质,正确的是( )
A.苯中的甲苯(酸化高锰酸钾溶液 分液)
B.乙醇中的水(无水硫酸铜 干燥)
C.乙醇中的乙酸(NaOH溶液 分液)
D.溴乙烷中的乙醇(水 分液)
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科目:高中化学 来源: 题型:
硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
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①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇
水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式_________________;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是_________________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是__________________(填字母)。
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释__________________________
_____。
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科目:高中化学 来源: 题型:
下列实验现象的描述错误的是
A. 氢气在氯气中燃烧生成绿色烟雾
B. 红热的铁丝在氧气中燃烧,火星四射,生成黑色固体颗粒
C. 点燃的硫在氧气中剧烈燃烧,发出蓝紫色火焰
D.钠在空气中燃烧,发出黄色的火焰,生成淡黄色固体
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科目:高中化学 来源: 题型:
下图中各物质均由常见元素(原子序数≤20)组成。已知A、B、K为单质,且在常温下A和K为气体,B为固体。D为常见的无色液体。I是一种常用的化肥,在其水溶液中滴加AgNO3溶液有不溶于稀HNO3的白色沉淀产生。J是一种实验室常用的干燥剂。它们的相互转化关系如下图所示(图中反应条件未列出)。请回答下列问题:
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(1)I的化学式为 ;J的电子式为 。
(2)反应①的化学方程式为 。
(3)F的水溶液与氯气反应的离子方程式为 。
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科目:高中化学 来源: 题型:
闪电时空气中有臭氧生成。下列说法中正确的是
A.O3和O2互为同位素
B.O2比O3稳定
C.等体积O3和O2含有相同质子数
D.O3与O2的相互转变是物理变化
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科目:高中化学 来源: 题型:
下列有关微粒之间关系和特征描述正确的是( )。
| 选项 | 微粒 | 相互关系 | 特征描述 |
| A | C60、C70、C540 | 同位素 | 微粒中只含非极性共价键 |
| B | 新戊烷、2,2-二甲基丙烷 | 同分异构体 | 常温常压下呈气态 |
| C |
| 同素异形体 | 铂作氨催化氧化时的催化剂 |
| D | 甲酸、硬脂酸 | 同系物 | 能发生酯化反应 |
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