Question

【题目】W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如图所示。已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z的非金属性在同周期主族元素中最大。

(1)X位于元素周期表中的位置是____________________。

(2)Z的气态氢化物和溴化氢相比，较稳定的是____________(写化学式)。

(3)W与X形成的一种化合物和水反应能生成W的单质，请写出该反应的化学方程式：________________________________________________________________________。

(4)Y与Z形成的化合物和足量水反应，生成一种弱酸和一种强酸，该反应的化学方程式是________________________________________________________________________。

Answer 1

【答案】 第三周期第ⅠA族 HCl 2Na2O2＋2H2O===4NaOH＋O2↑ SiCl4＋3H2O===H2SiO3↓＋4HCl

【解析】W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，W的一种核素的质量数为18，中子数为10，可知W的质子数为8，则W是氧元素；X和Ne原子的核外电子数相差1，且原子半径比W大，可知X为11号元素，故X为Na元素；Y的原子半径介于X和W之间，Y的单质是一种常见的半导体材料，所以Y是Si元素；Z的非金属性在同周期元素中最强，原子序数大于Si，故Z为Cl元素，则(1)Na位于元素周期表中的位置是第三周期第ⅠA族。(2)氯元素非金属性强于溴，则氯化氢的稳定性强于溴化氢。(3)W与X形成的一种化合物和水反应能生成W的单质，该反应的化学方程式为2Na2O2＋2H2O＝4NaOH＋O2↑。(4)Y与Z形成的化合物和足量水反应，生成一种弱酸和一种强酸，强酸是盐酸，弱酸是硅酸，该反应的化学方程式是SiCl4＋3H2O＝H2SiO3↓＋4HCl。