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【题目】下图所示装置中,甲、乙、丙三个烧杯依次分别盛放100 g 5.00%的NaOH溶液、足量的CuSO4溶液和100 g 10.00%的K2SO4溶液,电极均为石墨电极。
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接通电源,经过一段时间后,测得丙中K2SO4的质量分数变为10.47%,乙中c电极质量增加。
①电源的N端为________极;
②电极b上发生的电极反应式为___________________________________________;
③电极b上生成的气体在标准状况下的体积___________L;
④电极c的质量变化是________g;
⑤电解前后溶液的pH保持不变的是________。
A.甲溶液 B.乙溶液 C.丙溶液
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【题目】在室温下,向Cu(IO3)2饱和溶液中加入足量的经稀硫酸酸化的KI溶液,产生碘化亚铜(CuI)沉淀,溶液由蓝色变为棕黄色,反应前加入淀粉溶液不变蓝,反应后加入淀粉溶液变为蓝色.
(1)该反应中氧化剂是;
(2)该反应的氧化产物是;
(3)1mol氧化剂在反应中得到电子的物质的量为;
(4)某反应体系中有物质:Bi2(SO4)3、NaMnO4、H2O、MnSO4、NaBiO3、Na2SO4、H2SO4 . 请将NaBiO3之外的反应物与生成物分别填入以下空格内,配平化学计量数,并用单线桥表示电子转移的方向和数目. ![]()
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【题目】工业上通常采用CO(g)和H2(g)催化合成甲醇CH3OH(g).
(1)在—定温度和压强下,CO(g)+2H2(g)
CH3OH(g) ΔH=-128.8 kJ/mol.若将10a mol CO和20a mol H2放入2 L的密闭容器中,充分反应后测得CO的转化率为60%,则该反应的平衡常数为________(用含a的代数式表示).若此时再向该容器中投入10a mol CO、20a mol H2和10a mol CH3OH(g),判断平衡移动的方向是_______(填“正向移动”、“逆向移动”或“不移动”)。
(2)判断该反应达到平衡状态的依据是________(填字母序号).
A.混合气体的密度不变
B.混合气体的平均相对分子质量不变
C.2v逆(H2)=v正(CO)
D.容器内CO、H2、CH3OH的浓度之比为1∶2∶1
E.CH3OH、CO、H2的浓度都不再发生变化
(3)一定条件下,在容积相同的三个密闭容器中,按不同方式投入反应物,保持恒温、恒容,测得反应达到平衡时的有关数据如下:
容器 | 甲 | 乙 | 丙 | |
反应物投入量 | 1 mol CO、2 mol H2 | 1 mol CH3OH | 2 mol CH3OH | |
平衡时数据 | 反应能量变化的绝对值(kJ) | a | b | c |
反应物转化率 | α1 | α2 | α3 | |
体系压强(Pa) | p1 | p2 | p3 | |
则a+b=________;a1+a3________1(填“<”、“>”或“=”,下同);2p2________p3.
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【题目】下列变化过程中,△S>0的是( )
A.Na2O(s)和CO2(g)化合生成Na2CO3(s)B.氯气的液化
C.氯化钠固体溶于水D.氨气与氯化氢化合成氯化铵固体
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【题目】(1)在粗制CuSO4·5H2O晶体中常含有杂质Fe2+。在提纯时为了除去Fe2+,常加入合适氧化剂,使Fe2+氧化为Fe3+,下列物质可采用的是________
A. KMnO4 B. H2O2 C. Cl2 水 D. HNO3
然后再加入适当物质调整至溶液pH=3.8,使Fe3+转化为Fe(OH)3,可以达到除去Fe3+而不损失CuSO4的目的,调整溶液pH可选用下列中的________
A. NaOH B. NH3·H2O C. CuO D. Cu(OH)2
(2)甲同学怀疑调整至溶液pH=4是否能达到除去Fe3+而不损失Cu2+的目的,乙同学认为可以通过计算确定,已知lg2=0.3,常温下Fe(OH)3的溶度积Ksp=8.0×10-38,Cu(OH)2的溶度积Ksp=3.0×10-20,通常认为残留在溶液中的离子浓度小于1×10-5 mol·L-1时就认为沉淀完全,设溶液中CuSO4的浓度为3.0 mol·L-1,则Cu(OH)2开始沉淀时溶液的pH为____,Fe3+完全沉淀时溶液的pH为____,通过计算确定上述方案________(填“可行”或“不可行”)
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【题目】在容积一定的密闭容器中,反应A2(g)+B2(g)
xC(g),符合图Ⅰ所示关系。对图Ⅱ的说法正确的是(T为温度、P为压强、t为时间) ( )
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A. P3<P4,y为A2转化率
B. P3<P4,y为A2浓度
C. P3>P4,y为混合气密度
D. P3>P4,y为C的体积分数
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【题目】下列物质性质与应用对应关系正确的是
A.生石灰能与水反应,可用于干燥氯气B.晶体硅熔点高硬度大,可用于制作半导体材料
C.氢氟酸具有弱酸性,可用于雕刻玻璃D.稀硫酸具有酸性,可用于去除铁锈
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